Bài giảng Laser bán dẫn chi tiết, chuẩn nhất

Đặc điểm chung

Phương pháp kích thích laser bán dẫn

Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n

Kích thích bằng chùm điện tử

Bơm quang học

1. Đặc điểm chung

Ưu điểm:

_ Kích thước rất nhỏ _ Hệ số tác dụng có ích rất lớn _ Có khả năng tạo dãy sóng phát khá rộng

Nhược điểm: Nhược điểm:

_ Bậc đơn sắc và độ định hướng kém _ Công suất phát phụ thuộc rất lớn vào nhiệt độ

Thành phần hợp kim của phức chất bán dẫn biến đổi độ dài sóng bức xạ của laser

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.1 Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n

Miền hoạt tính

Khi có trường ngoài

Không có trường ngoài

(

)

_ Miền hoạt tính chứa đồng thời điện tử và lỗ trống (cid:61556)D (độ dài khuếch tán) có độ dày

C (cid:61549)(cid:61485)(cid:61549)(cid:61500)(cid:61550)(cid:61500)(cid:61508)

bức xạ có tần số được khuếch đại

khi đi qua miền này.

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.1 Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.1 Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.1 Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n Tính chất định hướng

(cid:61501)(cid:61527)

_Tính chất định hướng của chùm laser chủ yếu do nhiễu xạ.

2(cid:61548) d

_ Độ mở rộng của chùm tia:

sin

(cid:61686) (cid:61553)(cid:61687) (cid:61688)

(cid:61689) (cid:61690) (cid:61691)

(cid:61673) (cid:61674) (cid:61675)

~)(I (cid:61553)

d (cid:61552) (cid:61548) 2

(cid:61670) (cid:61671) (cid:61672) (cid:61553)

_ Sự phân bố cường độ bức xạ theo góc do nhiễu xạ: _ Sự phân bố cường độ bức xạ theo góc do nhiễu xạ:

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.1 Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n

Điều kiện tự kích

ln ln

GG GG (cid:61501) (cid:61501)

(cid:61483) (cid:61483)

n n

1 1 L2 L2

1 1 rr rr 21 21

hệ số khuếch đại

Khoảng cách

ngưỡng

giữa 2 gương

Hệ số khuếch đại lượng tử của môi trường hoạt tính

nGG (cid:61619)

máy phát tự kích khi:

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.1 Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n Laser bán dẫn làm việc theo chế độ liên tục ở nhiệt độ

)p(As

x1 (cid:61485)

phòng

GaAs

)n(As

(cid:61485)

x1 (cid:61485)

n n

(cid:61500) (cid:61500)

Al Al

Ga Ga

As As

GaAs GaAs

x x

x1 x1 (cid:61485) (cid:61485)

_ Dùng Diod cấu trúc kép:

: laser phát tập trung trong lớp GaAs : laser phát tập trung trong lớp GaAs (trong miền khuếch đại)

Kích thước miền hoạt tính nhỏ hơn

độ khuếch đại tăng lên

tỏa nhiệt tốt Đáy GaAs được tráng Sn

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.1 Phun dòng qua lớp tiếp xúc p-n

Ưu điểm:

_ Hệ số tác dụng có ích lớn.

_ Kích thước nhỏ.

_ Phương pháp điều chế bức xạ lối ra đơn giản. _ Phương pháp điều chế bức xạ lối ra đơn giản.

Nhược điểm:

_ Do kích thước nhỏ nên công suất không lớn.

_ Khó khăn trong chế tạo lớp tiếp xúc p-n có Eg lớn.

_ Không nhận được chùm laser trong dãy sóng ngắn.

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.2 Kích thích bằng chùm điện tử

_ Kích thích: chùm điện tử nhanh, năng lượng ~ 50keV

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.2 Kích thích bằng chùm điện tử

Kích thích

E (cid:61508)(cid:61502)

Điện tử mất năng lượng khi “oanh tạc” lên bán dẫn

Va chạm

Điện tử từ vùng HT lên các mức cao của VD:

Kích thích

Nguyên tử của mạng tinh thể

Điện tử mới từ vùng HT lên VD

Quá trình chuyển điện tử lên VD được phát triển như

“thác lũ”

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.2 Kích thích bằng chùm điện tử

E3(cid:61508)(cid:61619)

_Mỗi điện tử trong thác lũ tạo một cặp điện tử lỗ trống.

_ Điện tử kích thích có năng lượng

_Tái hợp xảy ra khi điện tử và lỗ trống tích tụ ở đáy vùng. _Tái hợp xảy ra khi điện tử và lỗ trống tích tụ ở đáy vùng.

_Mật độ dòng oanh tạc đủ lớn:

(

)

(cid:61508)(cid:61619)

(cid:61549)(cid:61485)(cid:61549) C

số điện tử và lỗ trống ở đáy vùng lớn

thỏa mãn điều kiện:

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.2 Kích thích bằng chùm điện tử

1 (cid:61485)

_Độ xuyên sâu của điện tử nhanh vào trong bán dẫn:

(cid:61548)

11,0

1 E4,22

1 (cid:61501)

(cid:61554)

(cid:61483)

(cid:61485)

(cid:61670) (cid:61671) (cid:61672)

(cid:61686) (cid:61687) (cid:61688)

(cid:61554)

: mật độ vật chất (g/cm3) E0 : năng lượng điện tử (MeV)

Ưu điểm: Ưu điểm:

_ Bậc đơn sắc và độ định hướng cao. _Công suất phát lớn.

Nhược điểm:

_ Hệ số tác dụng có ích thấp (~20%)

_ Độ dài xung của dòng điện tử phải nhỏ

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.3 Bơm quang học:

Kích thích một photon

(cid:61508)(cid:61502)(cid:61550)

_ Dùng ánh sáng kích thích

có cường độ lớn _ Năng lượng photon:

2. Phương pháp kích thích laser bán dẫn

2.3 Bơm quang học:

Kích thích hai photon

1 (cid:61508)(cid:61619)(cid:61550) 2

_ Năng lượng photon:

hấp thụ đồng thời 2 phonton

_ Với laser GaAs: dùng laser Nêôđim để bơm (độ xuyên _ Với laser GaAs: dùng laser Nêôđim để bơm (độ xuyên sâu của bức xạ: 0,3mm ; hệ số tác dụng có ích: 1%). sâu của bức xạ: 0,3mm ; hệ số tác dụng có ích: 1%). Nhược điểm:

_ Nguồn bơm phải có cường độ rất lớn. (Laser GaAs: cường độ ngưỡng của bức xạ bơm: 16MW/cm2)