T
P CHÍ KHOA HC
T
NG ĐI HC SƯ PHM TP H CHÍ MINH
Tp 21, S 7 (2024): 1190-1202
HO CHI MINH CITY UNIVERSITY OF EDUCATION
JOURNAL OF SCIENCE
Vol. 21, No. 7 (2024): 1190-1202
ISSN:
2734-9918
Websit
e: https://journal.hcmue.edu.vn https://doi.org/10.54607/hcmue.js.21.7.4136(2024)
1190
Bài báo nghiên cứu1
NG DNG VT LIU SILICA GEL MANG CHT LNG ION
KHUNG BIS((TRIFLUOROMETHYL)SULFONYL)AMIDE
LÀM PHA TĨNH TRONG CT CHIT PHA RN
Đ PHÂN TÍCH KIM LOI NNG Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+ VÀ Cd2+ TRONG C
Nguyễn Diệu Linh, Đào Huỳnh Xuân Thủy, Trần Hoàng Phương*
Trường Đại học Khoa học Tự nhiên, Đại học Quốc gia Thành phố Hồ Chí Minh, Việt Nam
*Tác giả liên hệ: Trần Hoàng Phương Email: thphuong@hcmus.edu.vn
Ngày nhn bài: 20-02-2024; Ngày nhn bài sa: 22-3-2024; Ngày duyt đăng: 22-5-2024
TÓM TT
Trong nghiên cu này, vt liu silica gel mang cht lng ion 3-alkyl-1-vinyl-1H-imidazol-3-
ium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (XT1 và XT2) và 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium
bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (XT3) được tng hợp thành công và xác định cu trúc bng các
phương pháp FT-IR, TGA, EDX và BET. Sau các thí nghim kho sát, vt liu SiO2-XT3 cho hiu
sut thu hi tt đi vi 5 ion kim loi nng là Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+ và Cd2+ vi hiu sut thu hi
trong khong t 79-104% pH 8,5 vi 1 mL dung môi ra gii HNO3/H2O 1 M. Trong điều kiện đã
ti ưu, phương pháp này có thể phân tích ion kim loi nng vi LOQ t 1,95-4,27 µg/L đối vi nưc
máy độ lp li tốt (RSD <6%), đạt theo tiêu chun AOAC.
T khóa: cht lng ion; kim loi nng; chiết pha rn; silica gel
1. Gii thiu
Trong cơ th con người và động vt thưng cha nhiu nguyên t kim loi mc đ
vi lượng, tuy nhiên khi hàm lượng vượt quá gii hn cho phép s tr thành mi lo ngi cho
sc khe (Verma & Dwivedi, 2013). Các kim loi nng gây ra các ri loạn trong cơ thể sng,
ảnh hưởng đến s sinh trưởng, phát trin ca cơ, gây ra mn nga, chóng mặt, đãng trí, thần
kinh, bnh v gan, viêm thn, ung tthể dn đến nguy tử vong (Verma & Dwivedi,
2013). Tuy nhiên, kim loi nng trong nước thường hin din nồng độ thp và d b nhiu
bởi các tác nhân khác. Do đó, phân tích kim loại nặng đòi hỏi phi có quá trình x mu
thích hp vi hàm ng vết và siêu vết (Wang et al., 2017). Ngoài các phương pháp chiết
lng-lng hay kết ta thì chiết pha rắn cũng là một phương pháp tối ưu cho quá trình này.
Ưu đim chính ca chiết pha rn là s dng ít dung môi hu cơ đc hi, d thc hin,
kh năng loi tp cao và t động hóa (Fritz & Macka, 2000).
Cite this article as: Nguyen Dieu Linh, Dao Huynh Xuan Thuy, & Tran Hoang Phuong (2024). Application of
bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide coated onto silica gel as sorbent for extraction of Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+
and Cd2+ in water sample. Ho Chi Minh City University of Education Journal of Science, 21(7), 1190-1202.
Tạp chí Khoa học Trường ĐHSP TPHCM
Tập 21, S7 (2024): 1190-1202
1191
Vic thay đi thành phần pha tĩnh của ct chiết pha rn giúp cht phân tích đưc chn
lc tốt hơn cũng như nồng đ được gia tăng đáng kể. Do đó, biến tính mt s vt liu có din
tích b mt lớn (silica gel, carbon vô định hình, graphene oxide) để tăng khả năng làm giàu
và tính chn lc cht phân tích là cn thiết. Ngày nay, cht lng ion là mt trong nhng hp
cht hữu cơ đã và đang được nghiên cu trong lĩnh vực hp ph thông qua vic mang các
cht lng ion này lên silica gel (Karel et al., 2016; Nguyen et al., 2020; Nguyen et al., 2018;
Tran et al., 2017). Pha tĩnh silica mang chất lng ion alkylimidazolium gn dây C18 (SiO2
(CH2)3Im–C18) đã đưc tng hp và ng dng làm giàu vết kim loi nng trong mẫu nước.
Kết qu ca phân tích ICP-MS cho thy gii hn phát hin (LOD) đi vi Cr3+, Ni2+, Cu2+
Cd2+ và Pb2+ lần lượt 0,724; 11,329; 4,571; 0,112 0,819 mg/L, tương ng vi đ lch
chuẩn tương đối (RSD) trong khong 0,941-1,351% và h s làm giàu là 150 (Nguyen et al.,
2022). Tương tự, vt liu cht lng ion gn trên carbon nanosphere [NMIIM]Br-CNSs cũng
được s dụng như một tác nhân to phc trong vic tách và làm giàu Cu2+và Pb2+ trong nước
thải, nước bin và trong gia v hng ngày vi h s làm giàu khong 300 (gii hn phát hin
là 0,30-1,76 µg/L) (Aliyari et al., 2016). La3+ trong nước cũng được phân tích mt cách chn
lc và hiu qu bng quá trình chiết pha rn s dng SG-N-PhenacylPyrNTf2 mang lên silica
gel làm pha tĩnh (Marwani & Alsafrani, 2013).
Trong nghiên cu này, chúng tôi s tng hp các cht lng ion thế h mi khung
imidazolium và 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium mang lên silica gel. Các vt liu này
s được ứng dùng làm pha tĩnh cho cột chiết pha rn dùng trong x lí mẫu nước cha Cr3+,
Ni2+, Mn2+, Cu2+ và Cd2+.
2. Vt liệu và phương pháp
2.1. Hóa cht
Chun phân tích Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+ và Cd2+ (1000 ppm) và các hóa cht 1-vinyl
imidazole, 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene, octyl bromide, decyl bromide và lithium
bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide được mua t Sigma-Aldrich. Các dung môi như
methanol, ethanol và muối potassium dihydrogenphoste được mua t Xilong (Trung Quc).
2.2. Thiết b và dng c
Phn ng tng hp vt liu đưc thc hin trên máy khuy t (IKA, Mĩ). Thiết b quang
ph ngun plasma cm ng cao tn kết ni khi ph ICP-MS (Agilent ICP-MS 7700x).
Bng 1. Thông s thuật đo ICP-MS
Thông s
Giá tr
Thông s
Chế độ Plasma bn Tốc độ dòng khí pha loãng (L/min) 0,0
RF power (W)
1550
Điu chnh ng kính
Nhit đ bung phun (oC)
2
Tốc độ dòng khí cell (mL/min)
Độ sâu mu (mm)
10
Năng lượng (V)
Tốc độ dòng khí máy phun
sương (L/min) 1,09 S nguyên t
5 ISTDs
Tạp chí Khoa học Trường ĐHSP TPHCM
Nguyễn Diệu Linh và tgk
1192
2.3. Quy trình điều chế vt liu silica gel mang cht lng ion XT1 và XT2
Hình 1. Quy trình điều chế vt liu SiO2-XT1 và SiO2-XT2
Trưc tiên, silica gel s được hot hóa bằng cách un hoàn lưu hỗn hp silica gel và
nitric acid (t l 1:2) trong 4 giờ. Sau đó, silica gel được ra bằng nước ct và kim tra bng
giấy pH đến môi trường trung tính (pH 7). Sau đó, silica gel tiếp tc đưc khuy trong
dung dch HCl nhit đ phòng trong 24 gi để loi các oxide kim loi ln trong silica gel.
Silica gel hot hóa s đưc ra bng nưc ct đến khi pH đt trung tính (pH7). Silica gel sau
ra s đưc sy khô 100 oC trong t sy trong 24 gi (Gharehbaghi & Shemirani, 2012).
Để điều chế vt liu t silica gel hot hóa và các cht lỏng ion, bước đu tiên, cht
lng ion s được tng hp bng cách khuấy hoàn lưu hỗn hp gm 1-vinylimidazole (5
mmol; 0,47 g) và 2 loi alkyl bromide là octyl bromide (5 mmol; 0,96 g) và decyl bromide
(5 mmol; 1,7 g) trong 2 gi 100 oC đ thu được 2 loi cht lng ion ln t là 3-octyl-1-
vinyl-1H-imidazol-3-ium bromide và 3-decyl-1-vinyl-1H-imidazol-3-ium bromide có dng
lng sánh màu vàng. Các cht lỏng ion được to thành s được ra bng dung môi diethyl
ether (3 mL x 3). Tiếp theo, cho hn hp 3-alkyl-1-vinyl-1H-imidazol-3-ium bromide (5
mmol) và mui lithium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (5 mmol; 1,5 g) hoà tan hoàn
toàn trong 20 mL methanol nhit đ phòng trong 4 h. Hn hp dung dch sau phn ng
được lc qua celite đ loi muối vô cơ. Dung dịch sau lc được cô quay để loi hoàn toàn
dung môi thu được cht lng ion sánh màu vàng nht lần lượt là 3-octyl-1-vinyl-1H-
imidazol-3-ium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (XT1) và 3-decyl-1-vinyl-1H-
imidazol-3-ium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (XT2). Cui cùng, cht lng ion 3-
alkyl-1-vinyl-1H-imidazol-3-ium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (2 g) được khuy vi
silica gel hoạt hóa (6 g) trong dung môi methanol trong 12 h. Sau đó, hỗn hp sau phn ng
được cô quay để thu được hai vt liu là SiO2-XT1 và SiO2-XT2 u trng mn.
2.4. Quy trình điều chế vt liu silica gel mang cht lng ion SiO2-XT3
Để điều chế vt liu SiO2-XT3 t silica gel hot hóa và các cht lỏng ion XT3, bước
đầu tiên, cht lng ion s được tng hp bng cách khuấy hoàn lưu hỗn hp gm 1,8-
diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene (5 mmol; 0,76 g) và octyl bromide (5 mmol; 0,96 g) và decyl
bromide (5 mmol; 1,7 g) trong 2 gi 100 oC đ thu được dng lng sánh màu trng. Các
cht lỏng ion được to thành s được ra bng dung môi diethyl ether (3 mL x 3). Tiếp theo,
cho hn hp 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium bromide (5 mmol) và mui lithium
bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (5 mmol; 1,5 g) hoàn tan hoàn toàn trong 20 mL
methanol nhit đ phòng trong 4 h. Hn hp dung dch sau phn ứng được lc qua celite
để loi muối vô cơ. Dung dịch sau lc đưc cô quay đ loại hoàn toàn dung môi thu được
Hoàn lưu 2 giờ
Nhiệt độ phòng
4 h, MeOH
SiO
2
SiO
2
N
N
N
N
C
n
H
2n+1
LiNTf
2
Br N
N
C
n
H
2n+1
NTf2 N
N
C
n
H
2n+1
NTf
2
C
n
H
2n+1
Br
Nhiệt độ phòng
4 h, MeOH
XT1: n=8
XT2: n=10
Tạp chí Khoa học Trường ĐHSP TPHCM
Tập 21, S7 (2024): 1190-1202
1193
cht lng ion sánh màu trng là 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium
bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (XT3). Cui cùng, cht lng ion 1,8-
diazabicyclo[5.4.0]undec-7-enium bis((trifluoromethyl)sulfonyl)amide (2 g) được khuy
vi silica gel hoạt hóa (6 g) trong dung môi methanol trong 12 h. Sau đó, hn hp sau phn
ứng được cô quay để thu được vt liu là SiO2-XT3 màu trng mn.
Hình 2. Quy trình điều chế vt liu SiO2-XT3
2.5. Quy trình kho sát quá trình chiết pha rn kim loi nng
Cân 200 mg vt liu silica gel mang cht lng ion và nhi vào cột Strata SPE được c
định bng 2 màng lc 20 µm Molderd Frits cho loi 3 mL. Thc hin c định miếng frit vi
lc đy là như nhau cho tng ct. Dung dch hn hp chun 50 μg/L gm các ion kim loi
nng Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+, Cd2+ pH = 8,5 (30 mL) được ti qua ct chiết pha rn cha
200 mg mi vt liệu. Sau đó, cột SPE đưc ra gii bng 1 mL dung dch HNO3/H2O (1 M).
Dch ra giải sau đó được thổi khô và định mc bng HNO3 2% và phân tích bng ICP-MS.
2.5.1. Tối ưu quy trình làm giàu mẫu trên vt liu SiO2-XT1
Thc hin các kho sát bao gm c đnh pH ti ưu, th tích mu ti đa ti qua ct, th
tích dung môi ra giải, điều kin thổi khô và đánh giá hiệu sut thu hồi, độ lp li ca quá
trình làm giàu hn hp ion kim loi nng Cr3+, Ni2+, Mn2+, Cu2+ và Cd2+.
2.5.2. Thẩm định phương pháp
Sau quá trình tối ưu hóa, quy trình phân tích được định lượng da trên các tiêu chí như
gii hn phát hin (LOD), gii hn định lượng (LOQ) trong các mu thc tế, khong tuyến
tính, đánh giá độ lp lại, độ ổn định của phương pháp, và hiệu sut thu hi trên mt s mu
thc tế. Mẫu nước máy được ly ti Trường Đại hc Khoa hc T nhiên Thành ph H Chí
Minh được chỉnh pH đến 8,5 và được bo qun nhit đ phòng. Sau đó, 12 mẫu nước
máy s đưc chia thành 2 nhóm vi 6 mu đưc thêm chun ion kim loi vi nng đ 5 µg/L
và 6 mu đưc thêm chun vi nng đ là 20 µg/L. Các mu tht s đưc ti qua ct vt liu
SiO2-XT3 vi quy trình chiết pha rn đã đưc ti ưu hóa. Dch ra gii sau đó đưc đnh mc
bng dung dch HNO3 2% và nng đ các ion kim loi s đưc xác đnh bng phương pháp
ICP-MS. Gii hn đnh lưng và gii hn phát hin đưc tính toán theo công thc như sau:
LOD = 3SD
LOQ = 3LOD
(trong đó, SD là độ lch chun ca 6 mẫu nước máy được thêm chun)
Độ tái lặp được kho sát thông qua vic lp li kết qu ca 6 mu dung dịch đã được
ti qua ct vi nồng độ như nhau, kết qu sau khi phân tích s được tính toán khong tin cy
da theo công thc
RSD = SD
x
N
NN
N
SiO
2
MeOH, 4 h,
nhiệt độ phòng
N
N
SiO
2
Hoàn lưu 2 giờ
C
8
H
17
Br
Br
Nhiệt độ phòng
4 h, MeOH
LiNTf
2
N
NNTf2
NTf2
Tạp chí Khoa học Trường ĐHSP TPHCM
Nguyễn Diệu Linh và tgk
1194
(trong đó, x là nồng độ trung bình ca 6 mu kho sát)
3. Kết qu và tho lun
3.1. Xác định cu trúc và hình thái ca vt liu cht lng ion tm lên silica gel
Các đc tính cu trúc và hình thái ca các vt liu đưc tng hp t cht lng ion mang
trên silica gel hoạt hóa thông qua tương tác vật được xác nhận bằng quang phổ hồng ngoại
biến đổi Fourier (FT-IR), phổ cộng hưởng từ hạt nhân 1H và 13C-NMR, phân tích nhiệt trọng
lượng (TGA), phổ tán sắc năng lượng tia X (EDX), kính hiển vi điện tử quét (SEM), phương
pháp đo diện tích bề mặt Brunauer-Emmett-Teller (BET). Trong giai đoạn đu, b mt silica
gel được hot hóa thông qua phn ng thy gii các ni Si-O-Si trên b mt đ to ra các ni
Si-OH t do (Gharehbaghi & Shemirani, 2012). Vi 3 loi vt liu đã tổng hp phn thc
nghim thì cht lỏng ion tương tác vật lí vi silica gel thông qua liên kết hydrogen
(Vafaeezadeh & Fattahi, 2014).
Trong ph FT-IR (Hình 3a), các đnh hp thu ca silica hot hóa 1079 cm-1 và 792cm-
1 được quy cho các tín hiu bt đi xứng và đối xng ca liên kết Si-O-Si, kèm theo đỉnh
hp thu rộng điển hình ca nhóm hydroxyl (-OH) ti 3517 cm-1 (Xu et al., 2015). Bên cnh
đó, phổ FT-IR ca vt liu t silica gel và cht lng ion XT1 cho thy đỉnh hp thu ca liên
kết C-H (sp3) ti 2940 cm-1 và 2859 cm-1 ng với dao động ca gc methyl hoc methylene
có trong cu trúc vt liu (Amarasekara & Owereh, 2010; Berktas et al., 2020), đnh hp thu
ca C=C trong vòng hương phương được quan sát 1677 cm-1, đỉnh hp thu ca liên kết
C=N và C-N ln lưt ti 1521 cm-1 và 1361 cm-1. Ngoài ra, đỉnh hp thu ti 1189 cm-1 ng
vi s dao động ca S-O-S (Amarasekara & Owereh, 2010). Các tín hiu ca C-H (sp3),
C=N, C=C trong vòng hương phương thể quan sát rõ ràng trên ph FT-IR ca vt liu
SiO2-XT1. Tương tự như phổ ca vt liu SiO2-XT1, ph FT-IR ca vt liu SiO2-XT2 (Hình
3b) cũng cho các đỉnh hp thu đặc trưng. Dữ liu trên ch ra rng, ion Br đã trao đi thành
công vi anion trifluoromethanesulfonate. Bên cạnh đó, chất lng ion mang nhóm alkyl (C-
8) và (C-10) đã được c định thành công trên silica gel hot hóa.
Đối vi vt liu SiO2-XT3 (Hình 3c), ph FT-IR cho thy đnh hp thu ca nhóm NH2
ti 3543 cm-1, đỉnh hp thu ca liên kết C-H (sp3) ti 2900 cm-1 và 2871 cm-1, đỉnh hp thu
ca C=C trong vòng hương phương đưc quan sát 1683 cm-1 1. Ngoài ra, tín hiu ca C-N
được quan sát thy ti 1337 cm-1 và tín hiu C=N hp thu ti 1513 cm-1. Do đó, có th thy
rng cht lỏng ion XT3 đã được gn thành công lên b mt silica gel hot hóa. Da trên các
đỉnh hp thu trên ph hng ngoi FT-IR, các cht lỏng ion đã được gn thành công lên b
mt silica gel hot hóa dựa trên tương tác hóa học.