B CÔNG THƯƠNG
TRƯỜNG ĐẠI HC CÔNG NGHIP HÀ NI
------------------------
NGUYN DUY TRINH
NGHIÊN CU NÂNG CAO CHẤT LƯỢNG B MT KHI
ĐÁNH BÓNG TỪ TÍNH HP KIM TI-6AL-4V
Chuyên ngành: K thuật Cơ Khí
Mã s: 9.52.01.03
TÓM TT LUN ÁN TIẾN SĨ K THUT
Hà Ni - 2025
Công trình được hoàn thành ti:
TRƯNG ĐI HC CÔNG NGHIP HÀ NI - B CÔNG THƯƠNG
Người hướng dn khoa hc:
PGS.TS. Hoàng Tiến Dũng
Phn bin 1:
Phn bin 2:
Phn bin 3:
Luận án được bo v ti Hội đồng đánh giá luận án tiến cấp
Trường hp ti Trường Đại hc Công nghip Ni vào hồi…
giờ, ngày … tháng … năm
Có th tìm hiu lun án ti:
- Thư viện Trường Đại hc Công nghip Hà Ni
- Thư viện Quc gia Vit Nam
1
M ĐẦU
1. Lý do chọn đề tài
Hp kim Ti-6Al-4V được s dng rng rãi trong nhiu ngành công nghip, bao
gồm hàng không trụ, thiết b th thao, hóa du, y tế ô tô, cùng nhiu ngành
công ngh cao khác. Vic ng dng rng rãi ca vt liệu này được thúc đẩy nh
kết hợp các ưu điểm ni bật như trọng lượng nh (ch bng 56% so vi thép không
g), kh năng tương thích sinh học cao, cùng vi kh năng chống ăn mòn vượt tri
cùng độ bn cao [1-3]. Với độ bn mỏi vượt tri cùng kh năng chịu nhit cao,
điều này giúp titanium hp kim của chúng được s dng trong các ng dng
quan trọng như tua-bin khí trong ngành hàng không vũ trụ, vi kh năng chịu được
nhiệt độ lên ti 600°C [4, 5]. Trong điều kin làm vic các kết cu chu ti trng
quay tun hoàn nhiệt độ cao trong ngành hàng không như trục chính của động
phản lc, rôto tua-bin, trc quạt động cơ, trục máy nén cao áp, trc rotor chính
ca trực thăng trục bánh xe h cánh, các vết nt mỏi thường khi ngun t
nhng vết xước nh hình thành trong quá trình gia công. Các vết xước hình thành
trong quá trình gia công là mt trong nhng nguyên nhân chính gây ra s khi phát
lan truyn vết nt mi, dẫn đến hỏng b mt làm vic ca chi tiết máy. Do
đó, nghiên cứu gii pháp gim vết xước trên b mt chi tiết chế to t vt liu hp
kim Ti-6Al-4V giúp hn chế s phát trin các vết nt do mi [6, 7]. Ngoài ra, khi
s dng hp kim Ti-6Al-4V trong sn xut h thống vi điện t (MEMS), độ
nhám b mặt tăng có thể dẫn đến tui th mi thấp hơn, tăng khả năng mòn cơ học
cùng nguy nứt b mặt cao hơn. Ngược lại, khi độ nhám b mt thấp thì độ bn
và hiu sut s dng ca các thiết b này được nâng lên đáng kể.
Nhu cu v thiết b s dng các chi tiết vt liu Ti-6Al-4V đạt nhám nanomet
cùng din tích lớn đã tăng nhanh chóng trong nhiều lĩnh vực, chng hạn như hàng
không trụ, công nghip hóa du y hc [8, 9]. Các phương pháp đánh bóng
MRF đáp ng tt to ra các b mt dạng gương đạt nhám b mt nanomet. Vi
hai loại đánh bóng từ tính ph biến được s dng bao gồm đầu bi và bánh mài [10-
12], được s dụng để đánh bóng các bề mt ln theo qu đạo ca dng c. Các mô
hình này hiu suất đánh bóng thấp cùng yêu cu thi gian gia công kéo dài.
Do đó, khi áp dng trong sn xut công nghiệp đặc bit các b mt kích
thước ln cn rt nhiu thi gian đánh bóng. Hiệu sut và hiu qu của đánh bóng
t tính có th đưc ng cao bằng cách tăng cường độ t trường m rng din
tích làm vic của máy đánh bóng từ tính. Wang và cng s [13] đã đề xut mt ách
t vĩnh cửu nhm to ra b mt siêu mn; trong nghiên cứu này đã đạt được t
trường rng cho thy hiu qu trong các quy trình đánh bóng MRF với b mt
2
ln. Ách t ci tiến được Luo và các cng s [14] đã phát triển để to ra b mt vt
liu gm y tế (zirconia) kích thước ln vi kh năng loại b vt liu hiu qu
chất lượng b mt cao. Tuy nhiên, vi các ách t đã phát triển, t trường vùng
được đánh bóng không mở rng vô hn do hn chế v kích thước ách t cũng như
kh năng tạo ra t trường. Mt mng t trưng hạn được to ra thông qua s
sp xếp nam châm có th khc phc nhng hn chế gp phi trong quá trình to ra
t trường. Tác gi Meng cng s [15] đã phát triển quy trình đánh bóng bằng
các cụm nam châm trong các quy trình đánh bóng MRF để m rng kh năng vận
hành t trường. Phân b mật độ t trường hiu suất đánh bóng được xác minh
thông qua các thí nghim phng. Tuy nhiên, nghiên cu tp trung vào vic
to ra t trường thông qua phương pháp sắp xếp nam châm đơn giản và chưa khám
phá các phương pháp cải thin chất lượng b mt loi b ợng vật liu gia
công trong các quy trình đánh bóng MRF bằng cách tăng cường độ t trưng. Mt
giải pháp lý tưởng th ci thin hiu qu đánh bóng của MRF là tăng cường độ
t trường bng mng Halbach [16, 17]. Mng t trường Halbach tăng cường cường
độ t trường và m rộng vùng kích thích, do đó tăng hiệu qu đánh bóng trong các
quy trình MRF. Trong máy gia tc hạt, động cơ hiệu sut cao, chp cộng hưởng t
máy phân tích t, mảng Halbach thường được s dụng để to ra t trường
ờng độ cao tp trung mt bên trong khi s dng mt s nam châm nh [18,
19]. Hơn nữa, mng Halbach d dàng m rng vùng to t trường, do đó góp phn
vào hiu qu đánh bóng ca dung dch lng tnh có mt phng ln.
Xut phát t nhng thách thc trong gia công chính xác hp kim Ti-6Al-4V
các phân tích u trên, nghiên cứu sinh đề xuất hướng tiếp cn mới thông qua đề
tài: NGHIÊN CU NÂNG CAO CHẤT LƯỢNG B MT KHI ĐÁNH
BÓNG T TÍNH HP KIM TI-6AL-4V”. Với cách tiếp cn mi da trên kết
hp công ngh đánh bóng MRF với cu hình mng t Halbach đưc tối ưu nhằm
tăng cường độ t trường và m rng vùng đánh bóng, từ đó nâng cao hiệu sut loi
b vt liu trong khi vẫn duy trì độ chính xác nhám b mt cấp độ nanomet.
Một điểm ci tiến quan trọng khác được thiết lp thông qua dung dch MRF mi
s dng các thành phn thân thin với môi trường như Fe₃O₄, SiO₂, H₂O₂, axit
malic nước tinh khiết. H dung dch t tính được thiết lp nhằm đảm bo kh
năng đánh bóng hiệu qu, trong khi gim thiểu tác động đến sc khe môi
trường, phù hp với định hướng sn xut xanh.
2. Mục tiêu nghiên cứu
Mc tiêu chung:
3
Nghiên cu phát triển quy trình đánh bóng từ tính (MRF) chi tiết vt liu
hp kim Ti-6Al-4V đạt được nhám b mt c nanomet.
Mc tiêu c th:
- Thiết kế thiết b đánh bóng MRF sử dng mng Halbach ci tiến tăng cường
độ và m rộng vùng tác động ca t trường.
- Phân tích la chn dung dch đánh bóng MRF s dng các ht t tính Fe3O4,
ht mài SiO2, cht oxy hóa H2O2 axit malic nhằm đảm bo hiu sut cao trong
khi vn an toàn vi môi trường.
- Xác minh hình toán hc lc ct thông qua phân tích thc nghim. Tích
hợp phương trình Preston với các thành phn lc FTFN trong mô hình toán hc
để nâng cao đ chính xác trong d đoán khả năng loại b vt liu (MRR).
3. Đối tượng, phạm vi nghiên cứu
3.1. Đối tưng nghiên cu
Thiết lp mng Halbach ci tiến nhm to ra t trường mnh cùng din tích tác
dng ln vùng đánh bóng t tính MRF chi tiết hp kim Ti-6Al-4V.
Thiết lp dung dịch đánh bóng từ tính MRF thân thin với môi trường trên nn
ht t tính Fe3O4, ht mài SiO2, cht oxy hóa H2O2, nước tinh khiết axit malic,
nhm nâng cao kh năng loại b vt liệu đạt được độ nhám b mt mc
nanomet.
3.2. Phm vi nghiên cu
Nghiên cu chất lượng b mt kh năng loại b vt liu ca quá trình
đánh bóng từ tính (MRF) đối vi hp kim Ti-6Al-4V s dng dung dch MRF thân
thin vi môi trường bao gm: ht t Fe3O4, ht mài SiO2, cht oxy hóa H2O2
axit malic, kết hp vi mng Halbach ci tiến. Các thông s nghiên cu bao gm:
- Thông s công ngh: tốc độ quay ca chi tiết gia công (200 ÷ 600
vòng/phút), khoảng cách đánh bóng (1.0 ÷ 2.0 mm), số chu k chuyn
động qua li ca mng Halbach (15 ÷ 30 chu k/phút), th tích dung
dch MRF (300 ÷ 600 ml).
- Thông s dung dch MRF: nồng độ H2O2 (0.5 ÷ 1.5% theo th tích), giá
tr pH ca dung dch (4 ÷ 6).
4. Nội dung nghiên cứu
Để thc hiện được mc tiêu nghiên cứu đề ra, Nghiên cu sinh tp trung
thc hin các nội dung chính sau đây:
- Tng quan v công ngh đánh bóng từ tính, tp trung vào kh năng ng dng
MRF cho hp kim Ti-6Al-4V. Ni dung bao gm tng hp phân ch các
nghiên cứu trong và ngoài nước v MRF, đánh giá tiến trình phát triển, cơ chế hot
động và ng dng thc tiễn. Đặc bit, nghiên cu tp trung vào thiết lp dung dch
MRF s dụng Fe₃O₄, SiO₂ và H₂O₂ để nâng cao hiu suất đánh bóng, đồng thi xác
định các vấn đề nghiên cu chính cn gii quyết nhm tối ưu hóa quá trình đánh
bóng hp kim Ti-6Al-4V.