Luận văn Thạc sĩ Khoa học: Chế tạo màng mỏng Si3Nn4, SiO2 và màng treo Si3N4 bằng phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma
Thêm vào BST
Báo xấulượt xem 7
download
Download
Vui lòng tải xuống để xem tài liệu đầy đủ
Luận văn đã giới thiệu cấu trúc, tính chất và ứng dụng của màng mỏng Si3N4 và SiO2 cũng như màng treo Si3N4. Trình bày một số phương pháp chế tạo màng mỏng và màng treo đang được nghiên cứu. Thực nghiệm và các phương pháp nghiên cứu. Giới thiệu tổng quan về thiết bị sử dụng và trình bày quá trình chế tạo màng mỏng Si3N4 và SiO2, màng treo Si3N4 theo phương pháp lắng đọng hơi hóa học tăng cường plasma.
Bình luận(0) Đăng nhập để gửi bình luận!
CÓ THỂ BẠN MUỐN DOWNLOAD
Chịu trách nhiệm nội dung:
Nguyễn Công Hà - Giám đốc Công ty TNHH TÀI LIỆU TRỰC TUYẾN VI NA
LIÊN HỆ
Địa chỉ: P402, 54A Nơ Trang Long, Phường 14, Q.Bình Thạnh, TP.HCM
Hotline: 093 303 0098
Email: support@tailieu.vn
Giấy phép Mạng Xã Hội số: 670/GP-BTTTT cấp ngày 30/11/2015 Copyright © 2022-2032 TaiLieu.VN. All rights reserved.
