Link xem tivi trực tuyến nhanh nhất xem tivi trực tuyến nhanh nhất xem phim mới 2023 hay nhất xem phim chiếu rạp mới nhất phim chiếu rạp mới xem phim chiếu rạp xem phim lẻ hay 2022, 2023 xem phim lẻ hay xem phim hay nhất trang xem phim hay xem phim hay nhất phim mới hay xem phim mới link phim mới

Link xem tivi trực tuyến nhanh nhất xem tivi trực tuyến nhanh nhất xem phim mới 2023 hay nhất xem phim chiếu rạp mới nhất phim chiếu rạp mới xem phim chiếu rạp xem phim lẻ hay 2022, 2023 xem phim lẻ hay xem phim hay nhất trang xem phim hay xem phim hay nhất phim mới hay xem phim mới link phim mới

intTypePromotion=1
ADSENSE

Lắng đọng lớp phủ CrN trên nền thép SKD61 bằng phương pháp phún xạ xung một chiều magnetron

Chia sẻ: Bình Hòa Nguyễn | Ngày: | Loại File: PDF | Số trang:5

20
lượt xem
0
download
 
  Download Vui lòng tải xuống để xem tài liệu đầy đủ

Bài viết bàn về lớp phủ CrN được lắng đọng trên nền thép SKD61 bằng phương pháp phún xạ xung một chiều magnetron trên thiết bị chân không B30 VTD; sử dụng nguồn xung DC giữ ổn định ở 320W; đế thép SKD61 được thiên áp ở 150V.

Chủ đề:
Lưu

Nội dung Text: Lắng đọng lớp phủ CrN trên nền thép SKD61 bằng phương pháp phún xạ xung một chiều magnetron

  1. 058-062 1,2*, 1,3 1 4 1 2 q , , 3 K 4 C6 - -6- -02-2017 B trên thi B30 VTD 320 W, thiên áp -150 V. 2 trong m. 2 là 6 sccm, và nén - 4,11 GPa . Abstract This paper discussed about the CrN layer coating on SKD61 substrate with pulse DC magnetron sputtering by B30-VTD equipment. The vacuum system has power pulses, kept at capacity of 320 W and bias voltage - 150 V on the substrate. The N2 gas flow is controled in range 4 ÷ 8 sccm and pulse frequency varied in range 150 ÷ 50 kHz. The experiment results demonstracted the deposition rate of CrN layer was affected by N2 gas flow and pulse frequency. The coating thickness decreased with increasing gas flow and pulse frequency from 7.1 down to 4.2 m. The X-ray diffraction (XRD) of CrN coating was shown that the layer has good stabilization with crystalline structure in N 2 gas flow 6 sccm, the main crystal orientation [200], the maximum residual compressive stress under the surface (200) was - 4.11 GPa in case of frequency pulse 150 kHz. Keywords: Pulsed DC sputtering; CrN coating; Pressure molding; Residual stress. * 0 0 *
  2. 058-062 2. -1 0 -1 2. -2 f 0
  3. 058-062 f 2 0 2 2 2 2 2 3. 2 2 2 x 1 1 2 2 x 2 x CrN CrN CrN CrN CrN Cr CrN CrN Cr2N 2 2 2 2
  4. 058-062 2 2 2 2 2 Ar N2 0 2 2 2 2 2 2 2 2 [1] Failure Analysis 20 (2012) 43-53. [2] between molten aluminum and selected die castings 2 http://dspace.library.colostate.edu/webclient/Delivery Manager/digitool_items/csm01_storage/2013/09/03/fi le_1/212644. 2 [3] P.J.C. Avelar-Batista thickness and deposition methods on the stripping rate of Cr- Technology 200 (2005) 1842-1848. [4] O. Salas, K. Kearns, S. Carrera, J.J. Moore
  5. 058-062 [12] 172 (2003) 117-127. and Residual Str Materials 4 (2011) 929-940. [5] Eduardo K. Tentardini, Augusto O. Kunrath, Cesar Aguzzoli, Maria Castro, John J. Moore, Israel J.R. [13] (2007). Coatings Technology, 202 (2008) 3764-3771. [14] J. Lin, Z.L. Wu, X.H. Zhang CrNx coatings Synthesized by dc and pulsed dc [6] J. Lin, S. Carrera, A.O. Kunrath, D. Zhong, S. Myers, Thin Solid Films 517 (2009) 1887-1894. for optimized die coatings: The case for aluminum pressure die- [15] Technology, 201 (2006) 2930-2941. structure and properties of chromium nitride coatings deposited using dc, pulsed dc and modulated pulse [7] ardness and adhesion ,Surface and properties of CrN films deposited on nitrided and CoatingsTechnology 204 (2010) 2230-2239. Coatings Technology 88 (1996) 183-189. [16] Jyh-Wei Lee, Shih-Kang Tien, Yu- Effects of Substrate Bias, Substrate Temperature, and [8] Lugscheider, K. Bobzin, Th. Hornig, M. Maes Pulse Frequency on the Microstructures of Chromium l Nitride Coatings Deposited by Pulsed Direct Current properties of (Cr,Al)N arc PVD coatings used for ournal of semi- Electronic materials, Vol. 34, No. 12(2005) 1484- Films 420-421 (2002) 318-323. 1492. [9] M. Gelfi, G.M. La Vecchia, N. Lecis, S. Troglio [17] Jianliang Lin, William D. Sproul, John J. Moore -thickness residual 2N coatings stress of CrN-PVDcoatings and fatigue nucleation using modulated pulse power (MPP) magnetron , Surface & Coatings Technology 205 263-268. (2011) 3226-3234. [10] V.D. Ovcharenko, A.S. Kuprin, G.N. Tolmachova [18] A.P. Ehiasarian, W.- power pulsed magnetron sputtered CrNx Surface and Coatings Technology 163-164 (2003) Plasma Physics (20) 204-207. 267-272. [11] V.D. Ovcharenko, A.S. Kuprin, G.N. Tolmachova, [19] Jyh-Wei Lee, Shih- properties evaluation of the CrN coatings deposited coatings using vacuum arc plasma in increased , Surface & Coatings Technology 200 (2006) 3330- 27-34. 3335.
ADSENSE

CÓ THỂ BẠN MUỐN DOWNLOAD

 

Đồng bộ tài khoản
2=>2