Nghiên cứu điều kiện tách Zirconi và Hafni từ môi trường HClO4 bằng cetyltrimetylamonibromua trong benzen

Chu Mạnh Nhương<br /> <br /> Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ<br /> <br /> 102(02): 3 - 7<br /> <br /> NGHIÊN CỨU ĐIỀU KIỆN TÁCH ZIRCONI VÀ HAFNI TỪ MÔI TRƯỜNG<br /> HClO4 BẰNG CETYLTRIMETYLAMONIBROMUA TRONG BENZEN<br /> Chu Mạnh Nhương*<br /> Trường Đại học Sư phạm – ĐH Thái Nguyên<br /> <br /> TÓM TẮT<br /> Bài báo thông báo các kết quả nghiên cứu tách zirconi (Zr) và hafni (Hf) trong môi trường HClO4,<br /> sử dụng tác nhân cetyltrimetylamonibromua (CTAB) và thuốc thử xylen da cam (XO). Trước hết<br /> là kết quả nghiên cứu xác định nồng độ Hf trong cùng hỗn hợp với Zr bằng hiệu ứng che, kết quả<br /> nghiên cứu cho thấy: sử dụng môi trường HClO4 0,038M và H2O2 3,8M có thể che được Zr với<br /> hiệu suất khoảng 88%. Từ đó, xây dựng các đường chuẩn xác định nồng độ (Zr+Hf) và Hf ở các<br /> bước sóng tương ứng là 550,5 nm, 434,5 nm trong khoảng nồng độ tuyến tính đều từ 0,2 đến 1<br /> ppm. Đặc biệt, bài báo đã chỉ ra các kết quả nghiên cứu ảnh hưởng của nồng độ axit, tác nhân chiết<br /> và các muối KClO4, KBr đến khả năng tách Zr/Hf, cụ thể là: sử dụng môi trường chiết là HClO4<br /> 0,13M cho hệ số tách (S) khá cao là 9,4; nồng độ CTAB/C6H6 là 0,004M cho hệ số tách là 2,6 và ở<br /> cùng nồng độ 0,015M thì muối KClO4 (với S=4,1) có ảnh hưởng tích cực hơn so với KBr (với<br /> S=2,3) đến khả năng tách Zr/Hf.<br /> Từ khóa: tách, zirconi, hafni, HClO4, CTAB, H2O2, XO.<br /> <br /> GIỚI THIỆU*<br /> Zirconi và hafni là cặp nguyên tố đồng hành<br /> (thuộc nhóm IVB, bảng tuần hoàn các nguyên<br /> tố hóa học) có tính chất hóa học rất giống<br /> nhau [1,2]. Vì vậy việc tách chúng ra khỏi<br /> nhau là một vấn đề rất khó khăn. Trên thế<br /> giới, phương pháp chiết lỏng-lỏng là một<br /> trong những phương pháp tách khá phổ biến<br /> và thường kết hợp với phương pháp quang<br /> phổ hấp thụ phân tử [3,4]. Trong các hệ chiết,<br /> các tác nhân: cetyltrimetylamonibromua,<br /> primene JMT, amberlite LA – 1, amberlite<br /> LA – 2, aliquat – 336S, trioctylamin...đã được<br /> nhiều tác giả quan tâm nghiên cứu để tách Zr<br /> và Hf trong các môi trường axit khác nhau<br /> [5,6,7]. Tuy nhiên phức giữa Zr, Hf và các tác<br /> nhân trên thường không có màu trong vùng<br /> UV- Vis, vì vậy khi nghiên cứu tách Zr và Hf<br /> đòi hỏi sử dụng các máy móc rất hiện đại.<br /> Hiện nay, xylen da cam là một thuốc thử hữu<br /> cơ có độ nhạy, độ chọn lọc khá cao để tạo<br /> phức màu đối với các vết vi lượng của các ion<br /> kim loại có số oxi hóa lớn trong đó có Zr(IV),<br /> Hf(IV) [8]. Các phức màu ZrXO, HfXO có<br /> phổ hấp thụ xen phủ nhau. Tuy nhiên tác nhân<br /> H2O2 có thể gây hiệu ứng che sự tạo phức của<br /> Zr mà không che tạo phức của Hf với XO.<br /> Trong bài báo này, chúng tôi sử dụng XO,<br /> *<br /> <br /> Tel: 0986 519251, Email: chumanhnhuongkhoahoa@gmail.com<br /> <br /> H2O2 để xác định nồng độ Zr, Hf bằng<br /> phương pháp quang phổ hấp thụ phân tử sau<br /> khi chiết chúng bằng CTAB trong môi trường<br /> HClO4.<br /> THỰC NGHIỆM<br /> Thiết bị, dụng cụ, hóa chất<br /> Máy quang phổ UV – Vis 1700 (Nhật Bản).<br /> Phễu chiết và các dụng cụ dùng trong phân<br /> tích thể tích.<br /> Dung dịch chuẩn hỗn hợp (Zr và Hf )20ppm,<br /> CTAB, C6H6, HClO4, XO, H2O2, KClO4, KBr<br /> đều có độ tinh khiết phân tích.<br /> Phương pháp<br /> Phương pháp che: chuẩn bị dung dịch Zr<br /> 0,5ppm, Hf 0,5ppm trong môi trường axit<br /> HClO4 0,036M, tiến hành tạo phức màu với<br /> thuốc thử XO 0,05%. Chia dung dịch thành 2<br /> phần bằng nhau. Phần 1: thêm H2O2 để che<br /> phức ZrXO, sau đó đo độ hấp thụ quang của<br /> HfXO ở bước sóng 434,5nm. Phần 2: thêm<br /> HClO4 0,036M đến thể tích bằng phần 1, sau<br /> đó đo độ hấp thụ quang của dung dịch (ZrXO<br /> + HfXO) ở bước sóng 550,5nm [7].<br /> Xây dựng đường chuẩn: để xác định nồng độ<br /> Hf và (Zr+Hf), chúng tôi đo độ hấp thụ quang<br /> của dung dịch (ZrXO+HfXO) có nồng độ từ<br /> 0,2 đến 1 ppm trong môi trường HClO4<br /> 3<br /> <br /> Chu Mạnh Nhương<br /> <br /> Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ<br /> <br /> 0,036M có và không có H2O2 ở bước sóng<br /> tương ứng là 434,5nm, 550,5nm.<br /> Phương pháp chiết: với mỗi thí nghiệm chiết<br /> sử dụng pha nước là hỗn hợp Zr 0,5 ppm, Hf<br /> 0,5ppm trong môi trường HClO4 ; tỉ lệ pha<br /> nước và pha hữu cơ là 1:1; thời gian lắc và<br /> cân bằng hai pha đều là 20 phút [5,6]. Sau khi<br /> tách hai pha, lấy pha nước thực hiện phản ứng<br /> tạo màu với XO, chia dung dịch thành hai<br /> phần bằng nhau. Phần 1 để xác định nồng độ<br /> (Zr + Hf), phần 2 để xác định nồng độ Hf trên<br /> cơ sở đo độ hấp thụ quang của các dung dịch<br /> màu. Các giá trị độ hấp thụ quang được dùng<br /> để tính hiệu suất chiết (%Ex), hệ số phân bố<br /> (D), hệ số tách (S) của Zr và Hf.<br /> KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN<br /> Khảo sát các điều kiện đo độ hấp thụ<br /> quang của phức ZrXO, HfXO<br /> Tiến hành đo phổ hấp thụ quang của thuốc<br /> thử và phức màu khi có và không có H2O2.<br /> Kết quả được chỉ ra ở hình 1.<br /> Từ hình 1 cho thấy: Thuốc thử XO và các<br /> phức ZrXO, HfXO trong môi trường HClO4<br /> khi không có H2O2 cho bước sóng hấp thụ cực<br /> đại lần lượt là 544nm, 550,5nm; còn khi dung<br /> <br /> b<br /> <br /> 102(02): 3 - 7<br /> <br /> dịch có thêm H2O2 thì tương ứng là 436 nm,<br /> 434,5 nm. Như vậy, khi không có hoặc có<br /> H2O2 thì lượng dư thuốc thử XO đều ảnh<br /> hưởng đến việc xác định Zr, Hf.<br /> Kết quả xác định nồng độ thuốc thử XO cho<br /> thấy với giá trị XO 5,7.10-5M thì kết quả xác<br /> định Zr, Hf cho độ tin cậy và độ lặp lại cao.<br /> Khi tăng nồng độ HClO4 từ 0,030 đến<br /> 0,075M thì độ hấp thụ quang của XO có xu<br /> hướng tăng. Tuy nhiên khi tăng nồng độ<br /> HClO4 từ 0,006 đến 0,094M thì độ hấp thụ<br /> quang của dung dịch (ZrXO+HfXO) có xu<br /> hướng giảm. Chúng tôi nhận thấy môi trường<br /> HClO4 0,036M thì độ hấp thụ quang của dung<br /> dịch ZrXO, HfXO có giá trị khá lớn và ảnh<br /> hưởng lượng dư XO là ít nhất. Do đó chúng<br /> tôi chọn môi trường HClO4 0,036M để đo độ<br /> hấp thụ quang của các phức ZrXO, HfXO ở<br /> bước sóng 550,5nm..<br /> Khi tăng nồng độ H2O2 trong khoảng 1,3 đến<br /> 3,2 M thì độ hấp thụ quang của dung dịch<br /> ZrXO, HfXO giảm, và không đổi khi nồng độ<br /> của H2O2 lớn hơn 3,8M. Vì vậy, để xác định<br /> nồng độ Hf chúng tôi chọn môi trường có<br /> H2O2 3,8M để che Zr (hiệu suất che 88%).<br /> a - Phổ UV- Vis XO;<br /> b - Phổ UV- Vis (XO,H2O2);<br /> c - Phổ UV- Vis (ZrXO, HfXO).<br /> d - Phổ UV- Vis (ZrXO,HfXO,H2O2).<br /> <br /> a<br /> c<br /> d<br /> <br /> Hình 1: Phổ UV –Vis của thuốc thử XO, phức ZrXO và HfXO<br /> (hệ a: (XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M); b: (XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M: H2O2 3,8M); c: (Zr 0,5ppm:<br /> Hf 0,5ppm: XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M); d: (Zr 0,5ppm: Hf 0,5ppm: XO 5,7.10-5 M: HClO4 0,073M:<br /> H2O2 3,8M)<br /> <br /> Xây dựng đường chuẩn xác định nồng độ (Zr + Hf) và Hf<br /> Kết quả được chỉ ra ở hình 2.<br /> 4<br /> <br /> Chu Mạnh Nhương<br /> <br /> Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ<br /> <br /> 102(02): 3 - 7<br /> <br /> A<br /> <br /> 0.35<br /> 0.3<br /> 0.25<br /> 0.2<br /> 0.15<br /> 0.1<br /> 0.05<br /> 0<br /> <br /> y = 0,3069x + 0,0228<br /> R2 = 0,9942<br /> <br /> Hf<br /> <br /> y = 0,3788x - 0,0663<br /> R2 = 0,9861<br /> <br /> Zr + Hf<br /> <br /> 0.2<br /> <br /> 0.3<br /> <br /> 0.4<br /> <br /> 0.5<br /> <br /> 0.6<br /> <br /> nồng độ, ppm<br /> <br /> 0.7<br /> <br /> 0.8<br /> <br /> Hình 2: Các đường chuẩn xác định nồng độ (Zr + Hf) và nồng độ Hf<br /> <br /> 0.9<br /> <br /> 1<br /> <br /> 1.1<br /> <br /> Khảo sát điều kiện tối ưu khi chiết Zr, Hf từ môi trường HClO4 bằng CTAB trong C6H6<br /> Các kết quả chỉ ra từ bảng 1 đến bảng 4.<br /> Bảng 1: Ảnh hưởng của nồng độ HClO4 đến %Ex, S của Zr và Hf<br /> STT<br /> 1<br /> 2<br /> 3<br /> 4<br /> 5<br /> 6<br /> HClO4 M<br /> 0,036<br /> 0,060<br /> 0,110<br /> 0,13<br /> 0,16<br /> 0,18<br /> A(λ = 550,5 nm)<br /> 0,189<br /> 0,084<br /> 0,220<br /> 0,224<br /> 0,108<br /> 0,163<br /> A(λ = 434,5 nm)<br /> 0,113<br /> 0,078<br /> 0,123<br /> 0,115<br /> 0,08<br /> 0,115<br /> %Ex(Zr)<br /> 23,99<br /> 56,62<br /> 14,14<br /> 6,81<br /> 45,25<br /> 39,02<br /> %Ex(Hf)<br /> 41,22<br /> 64,03<br /> 37,70<br /> 39,92<br /> 62,72<br /> 39,02<br /> DZr<br /> 0,31<br /> 1,30<br /> 0,16<br /> 0,07<br /> 0,83<br /> 0,64<br /> DHf<br /> 0,70<br /> 1,78<br /> 0,61<br /> 0,66<br /> 1,68<br /> 0,64<br /> S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr)<br /> 2,3<br /> 1,4<br /> 3,8<br /> 9,4<br /> 2,0<br /> 1,0<br /> (Hệ chiết: Zr 0,5ppm, Hf 0,5ppm; CTAB 0,038 M trong C6H6)<br /> <br /> Từ bảng 1 cho thấy: trong khoảng nồng độ HClO4 từ 0,036 đến 0,18 M, hiệu suất chiết của Hf<br /> luôn cao hơn hiệu suất chiết của Zr. Trong môi trường HClO4 0,13 M hệ số tách Zr và Hf là lớn<br /> nhất (S = 9,4), như vậy môi trường HClO4 0,13 M là điều kiện tối ưu để tách Zr và Hf.<br /> Bảng 2: Ảnh hưởng của nồng độ CTAB trong C6H6 đến %Ex, S của Zr và Hf<br /> STT<br /> 1<br /> 2<br /> 3<br /> 4<br /> 5<br /> 6<br /> 7<br /> 8<br /> CTAB/C6H6 M<br /> 0,001<br /> 0,004<br /> 0,01<br /> 0,015<br /> 0,02<br /> 0,023 0,027 0,038<br /> A(λ = 550,5 nm)<br /> 0,118<br /> 0,137<br /> 0,120<br /> 0,140<br /> 0,128<br /> 0,134 0,093 0,012<br /> A(λ = 434,5 nm)<br /> 0,094<br /> 0,123<br /> 0,082<br /> 0,106<br /> 0,096<br /> 0,106 0,087 0,097<br /> %Ex(Zr)<br /> 65,57<br /> 57,91<br /> 40,27<br /> 42,04<br /> 44,89<br /> 43,05 57,98 50,78<br /> %Ex(Hf)<br /> 53,60<br /> 34,70<br /> 61,42<br /> 49,30<br /> 52,36<br /> 45,78 57,97 51,65<br /> DZr<br /> 1,90<br /> 1,38<br /> 0,67<br /> 0,73<br /> 0,81<br /> 0,77<br /> 1,38<br /> 1,03<br /> DHf<br /> 1,16<br /> 0,53<br /> 1,59<br /> 0,97<br /> 1,10<br /> 0,84<br /> 1,38<br /> 1,07<br /> S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr)<br /> 1,2<br /> 2,6<br /> 2,3<br /> 1,3<br /> 1,4<br /> 1,1<br /> 1,0<br /> 1,0<br /> (Hệ chiết: Zr 0,5ppm, Hf 0,5ppm; HClO4 0,18 M)<br /> <br /> Kết quả ở bảng 2 cho thấy: khi tăng nồng độ CTAB trong C6H6 từ 0,001M đến 0,038 M thì hệ số<br /> tách (S) tăng từ 1,2 đến 2,6 và sau đó giảm dần đến 1. Giá trị hệ số tách lớn nhất S = 2,6 đạt được<br /> khi nồng độ của CTAB bằng 0,004M. Khi tăng nồng độ CTAB đến 0,038 M thì hệ số tách giảm<br /> xuống 1. Do đó trong các thí nghiệm tiếp theo, chúng tôi sử dụng giá trị nồng độ của CTAB là<br /> 0,038M.<br /> Bảng 3: Ảnh hưởng của nồng độ KClO4 đến %Ex, S của Zr và Hf<br /> STT<br /> 1<br /> 2<br /> 3<br /> 4<br /> 5<br /> 6<br /> 7<br /> KClO4, M<br /> 0<br /> 0,005<br /> 0,0075<br /> 0,01<br /> 0,013<br /> 0,015 0,018<br /> A(λ = 550,5 nm)<br /> 0,118<br /> 0,168<br /> 0,143<br /> 0,173<br /> 0,167<br /> 0,188<br /> 0,2<br /> A(λ = 434,5 nm)<br /> 0,097<br /> 0,113<br /> 0,124<br /> 0,132<br /> 0,129<br /> 0,148 0,129<br /> %Ex(Zr)<br /> 50,56<br /> 34,39<br /> 55,17<br /> 44,35<br /> 46,03<br /> 47,48 28,61<br /> %Ex(Hf)<br /> 51,97<br /> 41,48<br /> 34,38<br /> 29,70<br /> 30,79<br /> 18,48 30,79<br /> DZr<br /> 1,16<br /> 0,52<br /> 1,23<br /> 0,80<br /> 0,85<br /> 0,90<br /> 0,40<br /> DHf<br /> 1,08<br /> 0,71<br /> 0,52<br /> 0,42<br /> 0,44<br /> 0,22<br /> 0,44<br /> S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr)<br /> 1,1<br /> 1,4<br /> 2,4<br /> 1,9<br /> 1,9<br /> 4,1<br /> 1,1<br /> (Hệ chiết: Zr 0,5ppm, Hf 0,5ppm; HClO4 0,18 M; CTAB 0,038 M trong C6H6)<br /> <br /> 5<br /> <br /> Chu Mạnh Nhương<br /> <br /> Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ<br /> <br /> 102(02): 3 - 7<br /> <br /> Bảng 4: Ảnh hưởng của nồng độ KBr đến %Ex, S của Zr và Hf<br /> STT<br /> KBr, M<br /> A(λ = 550,5 nm)<br /> A(λ = 434,5 nm)<br /> %Ex(Zr)<br /> %Ex(Hf)<br /> DZr<br /> DHf<br /> S (=DZr/DHf hoặc DHf/DZr)<br /> <br /> 1<br /> 0<br /> 0,118<br /> 0,093<br /> 48,44<br /> 54,25<br /> 0,94<br /> 1,19<br /> 1,3<br /> <br /> 2<br /> 0,005<br /> 0,168<br /> 0,123<br /> 42,03<br /> 34,69<br /> 0,73<br /> 0,53<br /> 1,4<br /> <br /> 3<br /> 0,0075<br /> 0,126<br /> 0,114<br /> 57,73<br /> 40,63<br /> 1,37<br /> 0,68<br /> 2,0<br /> <br /> 4<br /> 0,01<br /> 0,130<br /> 0,118<br /> 58,50<br /> 37,76<br /> 1,41<br /> 0,61<br /> 2,3<br /> <br /> 5<br /> 0,013<br /> 0,148<br /> 0,100<br /> 37,94<br /> 49,39<br /> 0,61<br /> 0,98<br /> 1,6<br /> <br /> 6<br /> 0,015<br /> 0,191<br /> 0,113<br /> 22,93<br /> 41,22<br /> 0,30<br /> 0,70<br /> 2,3<br /> <br /> 7<br /> 0,018<br /> 0,129<br /> 0,095<br /> 44,59<br /> 52,93<br /> 0,80<br /> 1,12<br /> 1,4<br /> <br /> 8<br /> 0,02<br /> 0,129<br /> 0,095<br /> 43,61<br /> 53,06<br /> 0,77<br /> 1,13<br /> 1,5<br /> <br /> (Hệ chiết: Zr 0,5ppm: Hf 0,5ppm: HClO4 0,18 M: CTAB 0,038 M trong C6H6)<br /> <br /> Bảng 3 và bảng 4 cho thấy: các muối KClO4<br /> và KBr đều có ảnh hưởng tích cực đến hệ số<br /> tách Zr và Hf. Trong đó hệ số tách Zr/Hf tăng<br /> mạnh nhất khi nồng độ của KClO4 là 0,015M<br /> với S = 4,1 và khi tiếp tục tăng nồng độ<br /> KClO4 thì hệ số tách giảm xuống gần 1.<br /> Trong khoảng nồng độ khảo sát của KBr từ<br /> 0,005 đến 0,02M, chúng tôi nhận thấy hệ số<br /> tách S lớn nhất tại hai giá trị nồng độ của KBr<br /> là 0,01 và 0,015M đều cho S=2,3. Ở cùng<br /> nồng độ 0,015 M thì KClO4 cho hệ số tách S<br /> lớn hơn so với KBr. Chính vì vậy chúng tôi<br /> nhận thấy KClO4 có ảnh hưởng của tích cực<br /> hơn đến việc tách Zr và Hf.<br /> KẾT LUẬN<br /> 1. Đã xác định được các điều kiện thích hợp<br /> để che Zr trong hệ (Zr 0,5ppm+Hf 0,5ppm) là<br /> XO 5,7.10-5 M, có mặt H2O2 3,8 M trong môi<br /> trường HClO4 0,036M, với các điều kiện trên<br /> thì hiệu suất che Zr đạt 88%.<br /> 2. Đã xây dựng các đường chuẩn xác định<br /> nồng độ của (Zr + Hf) và Hf trong môi trường<br /> HClO4 0,036 M với khoảng nồng độ tuyến<br /> tính đều từ 0,2 đến 1 ppm tại các bước sóng<br /> lần lượt là 550,5nm, 434,5nm và hệ số tương<br /> quan mẫu tương ứng là R2 = 0,9861 và R2 =<br /> 0,9942.<br /> <br /> 6<br /> <br /> 3. Đã xác định các điều kiện tối ưu đến việc<br /> tách Zr và Hf. Các điều kiện đó là: nồng độ<br /> của HClO4 0,13M; nồng độ của CTAB<br /> 0,004M trong C6H6; nồng độ của KClO4 là<br /> 0,015 M; nồng độ KBr là 0,01 và 0,015 M.<br /> Muối KClO4 có ảnh hưởng tích cực hơn KBr<br /> đến khả năng tách Zr và Hf.<br /> TÀI LIỆU THAM KHẢO<br /> [1]. Hoàng Nhâm, Hóa vô cơ T3, Nxb GD, 2001.<br /> [2]. R.A.Lidin, V.A.Mororosco, L.L.Anđena. Tính<br /> chất lí hóa các chất vô cơ, Nxb Khoa học và kĩ<br /> thuật Hà Nội, 2001.<br /> [3]. Hồ Viết Quý, Các phương pháp phân tích<br /> công cụ trong hóa học hiện đại, Nxb ĐHSP, 2002<br /> [4]. Trấn Tứ Hiếu, Phân tích quang phổ hấp thụ<br /> UV-VIS, Nxb ĐHQGHN, 2001.<br /> [5].<br /> I.S.E.L-Yamani,M.Y.Farah<br /> và<br /> F.A.A.B.D.Leim (1978), Co-extraction and<br /> separation of zirconium and hafnium by longchain amines from sulphate media, .Egypt.<br /> [6]. C.P.Vibhute và S.M.Khopkar (1986),<br /> liquid/liquid extraction separation of hafnium with<br /> amberlite LA-1 from zirconium and other elements<br /> in citric acid solutions, Idian.<br /> [7].<br /> K.L.Cheng (1962), determination of<br /> zirconium and hafnium with xylenol orange and<br /> methylthymol blue,USA .<br /> [8]. K.L.Cheng (1958), Analytical applications of<br /> xylenol orange-Determination of traces,USA .<br /> <br /> Chu Mạnh Nhương<br /> <br /> Tạp chí KHOA HỌC & CÔNG NGHỆ<br /> <br /> 102(02): 3 - 7<br /> <br /> SUMMARY<br /> RESEACH ON CONDITIONS FOR SEPARATION OF ZIRCONIUM<br /> AND HAfNIUM FROM PERCHLORIC ACID MEDIUM<br /> BY CETYLTRIMETYLAMONIBROMUA IN BENZENE<br /> Chu Manh Nhuong*<br /> College of Education - TNU<br /> The article introducied results of reseaching of determination of hafnium (Hf) in mixture with<br /> zirconium (Zr) by a masking agent and use dye xylenol orange (XO). These were: use HClO4<br /> 0,038M and H2O2 3,8M which cant maske Zr, the efficiency is above 88%. The second, these<br /> established calibration curves for the determination of (Zr + Hf) and Hf at 550,5nm and 434,5nm,<br /> concentration was from 0,2 to 1 ppm. Special, reseaching an influence concentration of acid,<br /> extractant, some salt, these were: HClO4 0,13M with the separation (S) was 9,4; CTAB 0,004M in<br /> C6H6 with for extraction of Zr, Hf by CTAB in C6H6 was 2,6; the concentration is 0,015M, the<br /> effect of KClO4 (S=4,1) to the separation of Zr and Hf was higher than that of KBr (S=2,3).<br /> Keyword: separation, zirconium, hafnium, HClO4, CTAB, H2O2, XO.<br /> <br /> Ngày nhận bài: 05/6/2012, ngày phản biện: 18/6/2012, ngày duyệt đăng:26/3/2013<br /> *<br /> <br /> Tel: 0986 519251, Email: chumanhnhuongkhoahoa@gmail.com<br /> <br /> 7<br /> <br />