intTypePromotion=1
ADSENSE

Luận văn Thạc sĩ Vật lý: Đánh giá vai trò và thiết kế lớp điện môi cực cổng dị cấu trúc trong các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm có cấu trúc khác nhau

Chia sẻ: _ _ | Ngày: | Loại File: PDF | Số trang:102

5
lượt xem
0
download
 
  Download Vui lòng tải xuống để xem tài liệu đầy đủ

Đề tài nghiên cứu giúp hiểu rõ vai trò và ảnh hưởng của điện môi cực cổng dị cấu trúc tới đặc tính điện cũng như đưa ra các tham số thiết kế phù hợp nhằm nâng cao đặc tính tắt-mở của các loại TFET có cấu trúc khác nhau. Mời các bạn cùng tham khảo nội dung chi tiết.

Chủ đề:
Lưu

Nội dung Text: Luận văn Thạc sĩ Vật lý: Đánh giá vai trò và thiết kế lớp điện môi cực cổng dị cấu trúc trong các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm có cấu trúc khác nhau

  1. BỘ GIÁO DỤC VIỆN HÀN LÂM KHOA HỌC VÀ ĐÀO TẠO VÀ CÔNG NGHỆ VIỆT NAM HỌC VIỆN KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ ----------------------------- Huỳnh Thị Hồng Thắm ĐÁNH GIÁ VAI TRÒ VÀ THIẾT KẾ LỚP ĐIỆN MÔI CỰC CỔNG DỊ CẤU TRÚC TRONG CÁC TRANSISTOR HIỆU ỨNG TRƯỜNG XUYÊN HẦM CÓ CẤU TRÚC KHÁC NHAU LUẬN VĂN THẠC SĨ VẬT LÝ Khánh Hòa – 2020
  2. BỘ GIÁO DỤC VIỆN HÀN LÂM KHOA HỌC VÀ ĐÀO TẠO VÀ CÔNG NGHỆ VIỆT NAM HỌC VIỆN KHOA HỌC VÀ CÔNG NGHỆ ----------------------------- Huỳnh Thị Hồng Thắm ĐÁNH GIÁ VAI TRÒ VÀ THIẾT KẾ LỚP ĐIỆN MÔI CỰC CỔNG DỊ CẤU TRÚC TRONG CÁC TRANSISTOR HIỆU ỨNG TRƯỜNG XUYÊN HẦM CÓ CẤU TRÚC KHÁC NHAU Chuyên ngành: Vật lý kỹ thuật Mã số: 8520401 LUẬN VĂN THẠC SĨ VẬT LÝ NGƯỜI HƯỚNG DẪN KHOA HỌC: Hướng dẫn 1: PGS.TS. Nguyễn Đăng Chiến Hướng dẫn 2: PGS.TS. Phạm Duy Long Khánh Hòa - 2020
  3. Lời cam đoan Tôi cam đoan đây là công trình nghiên cứu của tôi dưới sự hướng dẫn chính của PGS. TS. Nguyễn Đăng Chiến. Những kết quả nghiên cứu của người khác và các số liệu được trích dẫn trong luận văn đều được chú thích đầy đủ. Tôi hoàn toàn chịu trách nhiệm trước Viện Hàn lâm Khoa học và Công nghệ Việt Nam về sự cam đoan này. Khánh Hòa, tháng 07 năm 2020 Huỳnh Thị Hồng Thắm
  4. Lời cảm ơn Đầu tiên, tôi xin bày tỏ lòng biết ơn sâu sắc đến PGS. TS. Nguyễn Đăng Chiến, người đã trực tiếp chỉ dạy, hướng dẫn và cung cấp kiến thức nền tảng cho tôi trong suốt thời gian qua để tôi có thể hoàn thành luận văn này. Tiếp theo, tôi xin cảm ơn PGS. TS. Phạm Duy Long, người đã giúp đỡ và hỗ trợ tôi rất nhiệt tình trong việc tìm kiếm tài liệu có liên quan đến đề tài. Tôi xin cảm ơn tất cả các thầy giáo, cô giáo và cán bộ công nhân viên Viện Hàn lâm Khoa học và Công nghệ Việt Nam, Học viện Khoa học và Công nghệ Hà Nội, Viện Nghiên cứu và Ứng dụng Công nghệ Nha Trang, trường Đại học Đà Lạt luôn giúp đỡ nhiệt tình và tạo mọi điều kiện tốt nhất để tôi hoàn thành luận văn. Tôi cũng xin chân thành cảm ơn ban giám hiệu và các đồng nghiệp tại trường THPT Hoàng Hoa Thám – Diên Khánh – Khánh Hòa đã tạo mọi điều kiện thuận lợi cho tôi trong suốt thời gian học tập và làm luận văn. Cuối cùng, tôi xin chân thành cảm ơn đến gia đình, bạn bè đã luôn động viên và giúp đỡ tôi trong suốt quá trình học tập. Khánh Hòa, tháng 07 năm 2020 Huỳnh Thị Hồng Thắm
  5. Danh mục các kí hiệu và chữ viết tắt Chữ viết đầy đủ bằng Tiếng Chữ viết đầy đủ bằng Chữ viết tắt Anh Tiếng Việt BTBT Band-To-Band-Tunneling Xuyên hầm qua vùng cấm DG-TFET Double Gate TFET TFET lưỡng cổng Double Gate Heterojunction TFET lưỡng cổng với điện DG HJ-TFET TFET môi cổng chuyển tiếp dị chất Drain-Induced Barrier Sự thu hẹp của rào xuyên DIBT Thinning hầm Eg Energy Bandgap Độ rộng vùng cấm EOT Equivalent Oxide Thickness Độ dày ô-xít tương đương Điện môi cực cổng dị cấu HGD Hetero-Gate-Dielectric trúc TFET điện môi cực cổng dị HGD-TFET Hetero-Gate-Dielectric TFET cấu trúc HGD-DG Hetero-Gate-Dielectric DG- TFET lưỡng cổng với điện TFET TFET môi cực cổng dị cấu trúc IC Integrated Circuit Mạch tích hợp ID Drain Current Dòng dẫn Ion On-Current Dòng điện mở Ioff Off-Current Dòng điện tắt Lg Channel Length Chiều dài kênh
  6. Công nghệ kim loại-ôxít- MOS Metal-Oxide-Semiconductor bán dẫn Metal-Oxide-Semiconductor Transistor hiệu ứng trường MOSFET Field-Effect Transistor kim loại-ôxít-bán dẫn NMOS N-Metal-Oxide-Semiconductor MOSFET loại n PMOS P-Metal-Oxide-Semiconductor MOSFET loại p SCE Short-Channel Effect Hiệu ứng kênh ngắn SS Subthreshold Swing Độ dốc dưới ngưỡng SOI Silicon On Insulator Silicon trên lớp cách điện TFET Tunnel Field-Effect Transistor transistor trường xuyên hầm tox Oxide Thickness Độ dày lớp ô-xít TFET điện môi cực cổng UGD-TFET Uniform-Gate Dielectric TFET đồng chất Vds Drain-to-Source Voltage Hiệu điện thế máng-nguồn Vgs Gate-to-Source Voltage Hiệu điện thế cổng-nguồn Vonset Onset Voltage Hiệu điện thế khởi động VT Threshold voltage Điện áp ngưỡng Drain-side dielectric Vị trí chuyển tiếp dị cấu Xdh heterojunction trúc phía máng Source-side dielectric Vị trí chuyển tiếp dị cấu Xsh heterojunction trúc phía nguồn
  7. Danh mục các hình vẽ, đồ thị Hình 1.1. Phác họa cấu trúc tụ MOS cơ bản. ................................................... 7 Hình 1.2. Phác họa cấu trúc của MOSFET (a) kênh n; (b) kênh p. ................. 8 Hình 1.3. Giản đồ năng lượng của MOSFET (a) ở trạng thái tắt và (b) ở trạng thái mở. ........................................................................................................... 10 Hình 1.4. Minh họa đặc tính dòng–thế của MOSFET và TFET. ................... 13 Hình 1.5. Phác họa cấu trúc của TFET đơn cổng (a) loại n và (b) loại p. ..... 14 Hình 1.6. Giản đồ năng lượng của TFET (a) ở trạng thái tắt và (b) ở trạng thái mở. .................................................................................................................. 15 Hình 1.7. Cấu trúc SOI của (a) NMOS và (b) TFET loại n. .......................... 16 Hình 1.8. Phác họa sơ đồ mặt cắt ngang của cấu trúc DG-TFET.. ................ 18 Hình 1.9. Phác họa cấu trúc của DG HJ-TFET với cổng xếp lớp. ................ 20 Hình 1.10. Phác họa cấu trúc của HGD-TFET đặc trưng. ............................. 21 Hình 1.11. Phác họa cấu trúc của HGD-TFET dựa trên cấu trúc khối đặc trưng với chiều dài cổng là 100 nm. ............................................................... 22 Hình 2.1. Minh họa sự xuyên hầm qua vùng cấm của electron từ vùng hóa trị sang vùng dẫn của chuyển tiếp p-n phân cực ngược trong điện trường đều. 27 Hình 2.2. Giản đồ năng lượng của chất bán dẫn có (a) vùng cấm trực tiếp và (b) vùng cấm gián tiếp. ................................................................................... 28 Hình 2.3. Sự truyền của véc-tơ sóng qua rào thế hình chữ nhật. ................... 30 Hình 2.4. Rào thế V(x) có hình dạng tùy ý. ................................................... 31 Hình 3.1. Phác họa TFET cấu trúc khối với (a) điện môi cực cổng đồng chất và (b) điện môi cực cổng dị cấu trúc có chiều dài kênh 100 nm. .................. 48 Hình 3.2. Đặc tính dòng-thế của (a) UGD-TFET và (b) HGD-TFET với các giá trị EOT của vật liệu điện môi cao khác nhau. .......................................... 50
  8. Hình 3.3. Giản đồ năng lượng (a) ở trạng thái tắt của UGD-TFET và (b) ở trạng thái mở của HGD-TFET với các giá trị EOT của vật liệu điện môi cao khác nhau. ....................................................................................................... 52 Hình 3.4. Phác họa cấu trúc của HGD-DG TFET. ........................................ 54 Hình 3.5. Đặc tính dòng-thế của (a) HGD-TFET cấu trúc khối và (b) HGD- DG TFET với Xdh có giá trị khác nhau. ......................................................... 55 Hình 3.6. Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của dòng mở vào Xdh ở (a) HGD- TFET cấu trúc khối và (b) HGD-DG TFET. ................................................. 56 Hình 3.7. Giản đồ năng lượng ở trạng thái khởi động của (a) HGD-TFET cấu trúc khối và (b) HGD-DG TFET với các giá trị Xdh khác nhau. .................... 58 Hình 3.8. Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của Xdh tối ưu và tỷ lệ dòng mở được nâng cao vào tỷ số EOT của lớp điện môi thấp/điện môi cao ở (a) HGD-TFET cấu trúc khối và (b) HGD-DG TFET. ............................................................ 59 Hình 3.9. Giản đồ năng lượng ở trạng thái mở của (a) HGD-TFET cấu trúc khối và (b) HGD-DG TFET với tỷ số EOT của lớp điện môi thấp/điện môi cao khác nhau. ................................................................................................ 60 Hình 3.10. Đặc tính dòng-thế của (a) HGD-TFET cấu trúc khối và (b) HGD- DG TFET với các vị trí Xsh khác nhau. .......................................................... 62 Hình 3.11. Sự thay đổi của dòng mở theo Xsh ở (a) HGD-TFET cấu trúc khối và (b) HGD-DG TFET. .................................................................................. 64 Hình 3.12. Đồ thị biểu diễn sự thay đổi của Xsh tối ưu và tỷ lệ dòng mở được nâng cao theo tỷ số EOT của lớp điện môi thấp/điện môi cao trong (a) HGD- TFET cấu trúc khối và (b) HGD-DG TFET. ................................................. 65 Hình 3.13. Phác họa cấu trúc của HGD-TFET xuyên hầm đường. ............... 67 Hình 3.14. (a) Đặc tính dòng-thế và (b) tốc độ xuyên hầm ở trạng thái dưới ngưỡng và trạng thái mở của HGD-TFET xuyên hầm đường với các giá trị Xdh khác nhau. ................................................................................................ 68
  9. Hình 3.15. Giản đồ năng lượng của HGD-TFET xuyên hầm đường ở trạng thái mở (a) theo phương thẳng đứng và (b) theo phương ngang. .................. 69 Hình 3.16. (a) Đặc tính dòng-thế và (b) tốc độ xuyên hầm của HGD-TFET xuyên hầm đường với các giá trị Xsh khác nhau. ........................................... 70 Hình 3.17. Giản đồ năng lượng theo phương thẳng đứng dọc theo đường cắt AA’ trong HGD-TFET xuyên hầm đường ở trạng thái mở với (a) Xsh = 20 nm và (b) Xsh = 6 nm. ........................................................................................... 71 Hình 3.18. Đặc tính dòng-thế của (a) UGD-TFET và (b) HGD-TFET có cấu trúc khối ở độ dài kênh khác nhau. ................................................................ 74 Hình 3.19. (a) Tốc độ xuyên hầm qua vùng cấm và (b) giản đồ năng lượng ở trạng thái tắt của UGD-TFET và HGD-TFET có độ dài kênh 30 nm. .......... 75 Hình 3.20. Đặc tính dòng-thế của (a) UGD-DG TFET và (b) HGD-DG TFET với các độ dài kênh khác nhau. ....................................................................... 77 Hình 3.21. Giản đồ năng lượng của UGD-DG TFET và HGD-DG TFET với độ dài kênh 20 nm (a) ở trạng thái tắt và (b) ở trạng thái mở. ....................... 78 Hình 3.22. Đồ thị biểu diễn sự thay đổi của (a) độ dốc dưới ngưỡng và (b) DIBT của HGD-DG TFET và UGD-DG TFET vào độ dài kênh. ................. 80 Hình 3.23 (a) Đặc tính dòng-thế và (b) giản đồ năng lượng của HGD-DG TFET với các giá trị Xdh khác nhau. .............................................................. 81 Hình 3.24. Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của (a) độ dốc dưới ngưỡng và (b) DIBT vào Xdh của HGD-DG TFET có độ dài kênh khác nhau. .................... 83 Hình 3.25. Đồ thị biểu diễn sự phụ thuộc của DIBT vào tỷ số EOT của vật liệu điện môi thấp/điện môi cao ở linh kiện HGD-DG TFET khi (a) Xdh = 8 nm và (b) Xdh tối ưu thỏa mãn điều kiện Xdh – Lg = 5 nm. ............................ 85
  10. 1 MỤC LỤC MỤC LỤC ....................................................................................................... 1 MỞ ĐẦU ......................................................................................................... 3 CHƯƠNG 1. TỔNG QUAN TÀI LIỆU ....................................................... 5 1.1. MOSFET VÀ GIỚI HẠN VẬT LÝ ......................................................... 5 1.2. ƯU ĐIỂM VÀ HẠN CHẾ CỦA TFET .................................................. 12 1.3. TFET VỚI ĐIỆN MÔI CỰC CỔNG DỊ CẤU TRÚC ........................... 19 1.4. MỤC TIÊU CỦA LUẬN VĂN .............................................................. 24 CHƯƠNG 2. SƠ LƯỢC VỀ MÔ HÌNH XUYÊN HẦM QUA VÙNG CẤM VÀ PHẦN MỀM MÔ PHỎNG HAI CHIỀU ................................. 26 2.1. MÔ HÌNH KANE CHO XUYÊN HẦM QUA VÙNG CẤM ................ 26 2.1.1. Cơ chế xuyên hầm qua vùng cấm ................................................. 26 2.1.1.1. Chất bán dẫn có vùng cấm trực tiếp và gián tiếp ......................... 26 2.1.1.2. Mô hình bán cổ điển WKB ............................................................ 29 2.1.1.3. Mô hình Kane ................................................................................ 35 2.1.2. Tốc độ xuyên hầm dựa trên mô hình Kane ................................. 39 2.2. PHẦN MỀM MÔ PHỎNG HAI CHIỀU ................................................ 43 CHƯƠNG 3. KẾT QUẢ VÀ THẢO LUẬN .............................................. 46 3.1. CƠ CHẾ GIẢM DÒNG RÒ LƯỠNG CỰC ........................................... 47 3.1.1. Cấu trúc linh kiện .......................................................................... 48 3.1.2. Triệt tiêu dòng lưỡng cực .............................................................. 49 3.2. TFET CẤU TRÚC LƯỠNG CỔNG ...................................................... 52 3.2.1. Cấu trúc linh kiện .......................................................................... 53 3.2.2. Vai trò của chuyển tiếp dị cấu trúc phía máng ........................... 53 3.2.3. Vai trò của chuyển tiếp dị cấu trúc phía nguồn .......................... 61
  11. 2 3.3. TFET VỚI CẤU TRÚC XUYÊN HẦM ĐƯỜNG ................................. 66 3.3.1. Cấu trúc linh kiện .......................................................................... 66 3.3.2. Ảnh hưởng của chuyển tiếp dị cấu trúc phía máng .................... 66 3.3.3. Ảnh hưởng của chuyển tiếp dị cấu trúc phía nguồn ................... 71 3.4. ẢNH HƯỞNG CỦA ĐIỆN MÔI DỊ CẤU TRÚC TỚI HIỆU ỨNG KÊNH NGẮN ................................................................................................ 72 3.4.1. Ảnh hưởng của kỹ thuật điện môi cổng dị cấu trúc đến hiệu ứng kênh ngắn .................................................................................................. 73 3.4.1.1. Ảnh hưởng của kỹ thuật điện môi cổng dị cấu trúc đến hiệu ứng kênh ngắn ở TFET cấu trúc khối ............................................................... 73 3.4.1.2. Ảnh hưởng của kỹ thuật điện môi cổng dị cấu trúc đến hiệu ứng kênh ngắn ở DG-TFET ............................................................................... 76 3.4.2. Ảnh hưởng của thông số điện môi cổng dị cấu trúc đến hiệu ứng kênh ngắn .................................................................................................. 79 3.4.2.1. Ảnh hưởng của chuyển tiếp dị cấu trúc phía máng Xdh đến hiệu ứng kênh ngắn ................................................................................................... 81 3.4.2.2. Ảnh hưởng của tỷ số EOT của vật liệu điện môi thấp/điện môi cao đến hiệu ứng kênh ngắn ............................................................................. 84 CHƯƠNG 4. KẾT LUẬN VÀ KIẾN NGHỊ .............................................. 86 CÔNG TRÌNH CỦA TÁC GIẢ CÓ LIÊN QUAN ĐẾN LUẬN VĂN .... 87 TÀI LIỆU THAM KHẢO ........................................................................... 88
  12. 3 MỞ ĐẦU Một trong những linh kiện điện tử hiện được xem là tiềm năng cho các mạch tích hợp công suất thấp là transistor hiệu ứng trường xuyên hầm (TFET) vì độ dốc dưới ngưỡng (SS) của nó ở nhiệt độ phòng có thể nhỏ hơn nhiều so với giá trị 60 mV/decade. Với độ dốc dưới ngưỡng có thể nhỏ, người ta hy vọng rằng hiệu điện thế ngưỡng của TFET có thể được giảm đáng kể để đảm bảo dòng mở và hiệu điện thế tăng tốc đủ lớn trong khi vẫn duy trì dòng rò nhỏ. Tuy vậy, cơ chế xuyên hầm cũng đồng thời là lý do khiến dòng mở của TFET thấp vì xác suất xuyên hầm là tương đối nhỏ. Hơn nữa, trong các cấu trúc TFET xuyên hầm điểm đặc trưng, xuyên hầm ở trạng thái mở chủ yếu xảy ra ở một góc nhỏ của cực nguồn và điều này cũng giới hạn dòng xuyên hầm của TFET. Để cải thiện dòng mở, ngoài kỹ thuật liên quan đến vật liệu, người ta đã đề xuất nhiều kỹ thuật khác nhau liên quan tới cấu trúc. Trong số đó, cấu trúc điện môi cực cổng dị cấu trúc giúp tăng đáng kể dòng điện mở trong khi đồng thời làm giảm mạnh dòng rò lưỡng cực của TFET. Vả lại, vì kỹ thuật này được thực hiện ở lớp cách điện cực cổng, nó hoàn toàn kết hợp được với các kỹ thuật tiên tiến khác liên quan đến vùng thân hay vùng điện cực cổng để nâng cao hơn nữa đặc tính điện của linh kiện. Vì vậy, việc nghiên cứu đánh giá vai trò và thiết kế lớp điện môi cực cổng dị cấu trúc trong các cấu trúc TFET khác nhau là rất cần thiết. Vì mức độ điều biến thế năng ở vùng kênh phụ thuộc vào bề dày ô-xít tương đương của lớp cách điện cực cổng, việc áp dụng một mối nối dị cấu trúc ở lớp cách điện cực cổng gây ra một sự thay đổi đột ngột của độ biến điệu thế năng vùng kênh ngay dưới vị trí mối nối dị cấu trúc. Sự khác biệt đột ngột đó tạo ra một giếng thế định xứ tại vị trí của mối nối. Giếng thế này nếu định xứ ở một vị trí và trong một điều kiện thích hợp sẽ phát huy vai trò của nó trong việc làm giảm độ dốc dưới ngưỡng và tăng dòng mở của linh kiện. Trong đề tài này, chúng tôi nghiên cứu thiết kế lớp điện môi cực cổng dị cấu trúc, từ đó đánh giá vai trò của nó trong việc nâng cao đặc tính điện của TFET có các cấu trúc khác nhau. Các hằng số điện môi cao và thấp của chất cách điện được giả sử là có thể tùy chỉnh và được lựa chọn ở một giá trị tỷ số thích
  13. 4 hợp sao cho phát huy cao nhất khả năng tăng dòng mở của kỹ thuật điện môi dị cấu trúc. Tham số thiết kế cơ bản là vị trí của mối nối dị cấu trúc được khảo sát ở tất cả các loại TFET khác nhau để nghiên cứu cơ chế, tính chất và vai trò của nó trong việc nâng cao đặc tính điện của linh kiện. Đối tượng nghiên cứu của luận văn là các transistor hiệu ứng trường xuyên hầm với các cấu trúc khác nhau, bao gồm: cấu trúc xuyên hầm điểm, xuyên hầm đường, cấu trúc khối và cấu trúc thân mỏng lưỡng cổng. Bề dày vật lý của lớp cách điện cực cổng được giữ đồng nhất ở giá trị vừa đủ lớn (~ 3 nm) để đạt được mức cho phép của dòng rò xuyên hầm trực tiếp qua cực cổng. Vật liệu sử dụng là InGaAs mà trong đó nồng độ In và Ga có thể thay đổi phù hợp trong từng mục đích nghiên cứu. Các nghiên cứu được dựa trên mô phỏng đặc tính điện cho cấu trúc hai chiều của linh kiện TFET. Mô phỏng hai chiều được thực hiện dựa trên phần mềm mô phỏng MEDICI đã được phát triển và thương mại hóa bởi công ty Synopsys của Hoa Kỳ. Đề tài giúp hiểu rõ vai trò và ảnh hưởng của điện môi cực cổng dị cấu trúc tới đặc tính điện cũng như đưa ra các tham số thiết kế phù hợp nhằm nâng cao đặc tính tắt-mở của các loại TFET có cấu trúc khác nhau.
  14. 5 CHƯƠNG 1. TỔNG QUAN TÀI LIỆU Trong khoảng những năm cuối của thế kỉ XX, hàng loạt các sản phẩm công nghệ cao đã ra đời. Các thiết bị điện tử hiện đại có ý nghĩa lớn trong cuộc cánh mạng công nghệ và đã góp phần nâng cao đời sống con người. Năm 1960, sự ra đời của transistor hiệu ứng trường kim loại-ôxít bán dẫn (MOSFET) là một trong những bước phát triển đột phá trong công nghệ điện tử. Vào những năm thập niên 90, MOSFET đã được thu nhỏ đến kích thước nm với tốc độ làm việc cao nên nó nhanh chóng chiếm vai trò chủ đạo trong ngành công nghệ điện tử. Tuy nhiên, trong thời đại công nghệ ngày nay, với yêu cầu cao về sự thu nhỏ về kích thước linh kiện thì MOSFET đã phải đối mặt với một số vấn đề khó khăn không thể khắc phục được dù đã áp dụng nhiều kỹ thuật tiên tiến. Trong khi đó, TFET được đánh giá là linh kiện tiềm năng thay thế cho MOSFET. Trong TFET, cơ chế xuyên hầm qua vùng cấm là cơ chế thiết yếu để tạo ra quá trình vận chuyển hạt tải điện đã được khai thác thành công. Vậy nên trong chương này, luận văn sẽ giúp chúng ta hiểu rõ hơn về cơ chế hoạt động cũng như ưu điểm và nhược điểm của hai loại linh kiện này. 1.1. MOSFET VÀ GIỚI HẠN VẬT LÝ Trong đời sống hiện đại ngày nay không thể nào thiếu được các thiết bị điện và điện tử. Các thiết bị này có thể nói là phổ biến khắp mọi nơi có con người và nó vẫn đang tích cực hỗ trợ cho cuộc sống của chúng ta. Sự phát triển của khoa học công nghệ thật sự đã đem lại những diện mạo mới cho cuộc sống. Giờ đây, chúng ta không những có thể biết được tình hình xảy ra trên thế giới chỉ trong vài phút mà còn có thể “gặp mặt” người thân, bạn bè dù ở cách xa cả nửa vòng Trái Đất. Trong đó, vật liệu đóng vai trò quan trọng trong việc điều khiển các thiết bị điện tử là chất bán dẫn (semiconductor). Công nghiệp vi mạch bán dẫn và mạch tích hợp (IC) đã trở thành ngành công nghiệp mũi nhọn của rất nhiều quốc gia trên thế giới. Năm 1940, tại phòng thí nghiệm Bell Labs, Ronssell B. Ohl đã sản xuất thành công các tinh thể Silicon, một chất bán dẫn nổi tiếng có thể hoạt động như một bộ chỉnh lưu. Đây chính là khởi đầu cho sự phát triển của ngành bán
  15. 6 dẫn sau này. Đến năm 1947, cũng tại phòng thí nghiệm Bell Labs đã có một bước phát triển đột phá khác khi John Bardeen và Walter Houser Brattain đã phát minh transistor tiếp xúc điểm Germanium đầu tiên. Đây là cột mốc quan trọng trong nỗ lực tìm ra thiết bị mới thay thế cho ống chân không và báo trước sự xuất hiện của thời đại transistor. Tuy nhiên, tại thời điểm phát minh, transistor bị dòng rò lớn và không thể làm việc ở nhiệt độ cao. Sau đó, William Bradford Shockley đã phát triển transistor chuyển tiếp (junction transistor) và transistor tiếp xúc lưỡng cực. Sử dụng kỹ thuật này, Morgan Sparks - nhà hóa học của Bell Labs đã thả các viên tạp chất nhỏ vào Germanium nóng chảy trong quá trình phát triển tinh thể để tạo các mối nối pn. Năm 1950, Morgan Sparks và Teal bắt đầu thêm hai viên tạp chất liên tiếp vào khối Germanium, lớp thứ nhất có tạp chất loại p và lớp thứ hai có tạp chất chất loại n tạo thành cấu trúc npn. Các transistor chuyển tiếp như vậy có hiệu suất vượt xa các transistor tiếp xúc điểm nên mô hình transistor chuyển tiếp bắt đầu được ứng dụng cho các mạch điện tử để khuếch đại dòng, khuếch đại thế và khuếch đại tín hiệu công suất. Bell Labs đã công bố tiến bộ này vào ngày 4 tháng 7 năm 1951 trong một cuộc họp báo. Vài năm sau đó, transistor hiệu ứng trường đầu tiên đã được Bell Labs sản xuất. Với những đóng góp cho sự nghiên cứu và phát triển của transistor, năm 1956 giải Nobel Vật lý đã được trao đồng thời cho ba nhà khoa học W. B. Shockley, J. Bardeen và W. H. Brattain. Sự ra đời của transistor đã đánh dấu cho một kỹ nguyên công nghệ rực rỡ bậc nhất trong lịch sử loài người và ngành công nghệ bán dẫn sau đó đã phát triển một cách nhanh chóng. Tiêu biểu cho sự phát triển này là sự ra đời của mạch tích hợp với các linh kiện đơn giản được tích hợp lên trên bề mặt tấm Silicon gọi là “chip”. Trong ngành công nghệ ngày nay, hầu hết các thiết bị điện tử trên thế giới là chip IC. Một con chip tuy rất nhỏ nhưng là một hệ thống các vi mạch cực kỳ phức tạp. Việc thiết kế và chế tạo các con chip là sự tổng hợp của nhiều ngành khoa học và công nghệ khác nhau. Năm 1960, không những công nghệ Epitaxial được phát triển thành công mà transistor hiệu ứng trường kim loại-ôxít bán dẫn (MOSFET) đầu tiên cũng được sản xuất tại phòng thí nghiệm Bell Labs. Năm 1963, công nghệ MOS (complementary metal-oxide-semiconductor) ra đời cũng được coi là nền tảng
  16. 7 Kim loại (Metal) Lớp ô-xít tox Đế bán dẫn Hình 1.1. Phác họa cấu trúc tụ MOS cơ bản. cho sự phát triển rực rỡ của bán dẫn. Hiện nay, MOS đang là công nghệ được sử dụng để sản xuất IC và MOSFET chính là linh kiện quan trọng nhất trong công nghệ MOS. Kích thước của MOSFET khá nhỏ, một vi mạch có thể chứa đến hàng triệu MOSFET, nên nó được sử dụng rộng rãi trong các ứng dụng mạch số [1]. Vào những năm thập niên 90, kích thước của MOSFET được thu nhỏ đến nanomet, tốc độ làm việc cao, con chíp Silicon được chế tạo đại trà và giá thành thấp. Vì vậy mà trong một thời gian dài, MOSFET đóng vai trò quan trọng trong công nghệ điện tử. MOSFET có nguyên tắc hoạt động dựa trên hiệu ứng từ trường để tạo ra dòng điện [1], vì có cấu trúc bán dẫn nên nó cho phép điều khiển bằng điện áp với dòng điều khiển cực nhỏ. Trong đó, cấu trúc MOS (metal-oxide- semiconductor) được ví như là “trái tim” của MOSFET. Cấu trúc MOS cơ bản tương tự như một tụ điện phẳng được phác họa như hình 1.1. Cấu trúc MOS có được bằng cách lắng đọng một lớp Silicon dioxide hoặc vật liệu điện môi khác trên đế (substrate) Silicon hoặc vật liệu bán dẫn khác. Sau đó đặt một lớp kim loại trên lớp điện môi cổng để tạo thành điện cực cổng [2]. Kim loại có thể là nhôm hoặc một số kim loại khác, nhưng bây giờ hầu hết nó là đa tinh thể có độ dẫn cao được lắng đọng trên lớp ô-xít [1]. Trong đó tox là độ dày của lớp ô-xít cổng (oxide thickness). Hình 1.2 phác họa cấu trúc cơ bản của một MOSFET. Từ hình 1.2 có thể thấy cấu trúc cơ bản của MOSFET gồm ba điện cực: cực máng (Drain (D)), cực nguồn (Source (S)) và cực cổng (Gate (G)). Cực cổng là cực điều khiển
  17. 8 Insulator Gate Source Drain n+ n+ p (a) Insulator Gate Source Drain p+ p+ n (b) Hình 1.2. Phác họa cấu trúc của MOSFET (a) kênh n và (b) kênh p. được cách ly hoàn toàn với cấu trúc bán dẫn còn lại bởi lớp điện môi (insulator) rất mỏng nhưng có độ cách điện cực lớn là SiO2. MOSFET có hai loại là MOSFET kênh n (NMOS) và MOSFET kênh p (PMOS). MOSFET kênh n có nguồn và máng được pha tạp loại n với nồng độ cao, thân pha tạp loại p với nồng độ thấp hơn. Trong khi đó, MOSFET kênh p có nguồn và máng được pha tạp loại p với nồng độ cao, thân pha tạp loại n với nồng độ thấp hơn. Thân và gốc của các điện cực được gắn liền với nhau. Kênh được hình thành phía dưới cổng và hạt tải điện có thể di chuyển giữa nguồn và máng qua kênh nếu có sự chênh lệch điện thế giữa nguồn và máng. MOSFET thuộc loại kênh n hay kênh p là do hạt tải điện đa số trong kênh. Ở MOSFET kênh n, hạt tải điện đa số là electron và MOSFET kênh p thì hạt tải điện đa số là lỗ trống. MOSFET kênh n, máng được đặt vào điện áp nguồn cấp còn
  18. 9 nguồn thường được nối đất để kéo điện áp máng xuống đất. Ngược lại, với MOSFET kênh p, máng được nối đất còn nguồn thường được đặt vào điện áp nguồn cấp để kéo điện áp máng lên gần với điện áp cung cấp. MOSFET hoạt động như một công tắc đơn giản. Trong đó, MOSFET như một công tắc đóng khi cổng được nối đất và như một công tắc mở khi cổng được nối với điện áp cấp [2]. MOSFET hoạt động dựa trên nguyên lý của vật lý cổ điển, với cơ chế khuếch tán nhiệt truyền thống [2]. Ở đây, ta sử dụng MOSFET kênh n để hiểu hơn về cơ chế hoạt động của MOSFET. Khi hiệu điện thế cổng-nguồn Vgs thấp hơn điện áp ngưỡng (VT) của NMOS thì rào thế nhiệt tại kênh cao khiến phần lớn electron ở cực nguồn không thể đi qua kênh đến cực máng, khi đó linh kiện ở trạng thái tắt. MOSFET là lý tưởng khi ở trạng thái tắt không có dòng điện giữa nguồn và máng. Tuy nhiên, một số electron có năng lượng lớn vẫn có thể chảy từ nguồn đến máng tạo nên dòng dưới ngưỡng. Khi hiệu điện thế cổng-nguồn (Vgs) lớn hơn điện áp ngưỡng, điện trường cực cổng cảm ứng mạnh tới khu vực kênh làm hạ rào thế nhiệt xuống rất thấp và do đó phần lớn electron ở cực nguồn có thể dễ dàng tới cực máng để thiết lập trạng thái mở. Hình 1.3 mô tả cơ chế phát xạ nhiệt của MOSFET kênh n ở trạng thái tắt và trạng thái mở. Dòng dẫn (drain current ID)) của MOSFET ở trạng thái mở có thể được xác định bằng công thức [2]:  W  Vds2  ID = nCox    (Vgs  VT )Vds   (1.1)  L  2  Trong đó: µn là độ linh động của electron trong kênh, Cox là điện dung của lớp ô-xít trên một đơn vị diện tích, W là chiều rộng của cổng, L là chiều dài của cổng, Vds là hiệu điện thế máng-nguồn (drain-to-source voltage). Điện dung của lớp ô-xít trên một đơn vị diện tích được tính như sau [2]:  ox Cox  (1.2) tox
  19. 10 N+ P N+ EC EV (a) Sự phát xạ nhiệt ở trạng thái tắt N+ P N+ EC EV (b) Sự phát xạ nhiệt ở trạng thái mở Hình 1.3. Giản đồ năng lượng của MOSFET (a) ở trạng thái tắt và (b) ở trạng thái mở. Với εox là hằng số điện môi của vật liệu điện môi cổng. Từ phương trình (1.1) và (1.2) ta dễ dàng nhận thấy muốn tăng dòng dẫn của MOSFET ta có thể sử dụng các vật liệu cổng có hằng số điện môi cao, thay đổi cấu trúc cổng, giảm độ dày lớp ô-xít cổng và/hoặc tăng điện áp cấp. Nhưng việc tăng điện áp cấp sẽ không phù hợp với yêu cầu về hiệu suất của các mạch tích hợp. Trong hơn 50 năm phát triển, với ưu điểm dễ chế tạo và kích thước nhỏ, MOSFET đã được sử dụng rộng rãi trong các mạch IC và đóng vai trò quan trọng trong ngành chế tạo linh kiện điện tử. Nhưng kỹ thuật điện tử hiện đại đòi hỏi sự tích hợp và nâng cao hiệu suất của các vi mạch nên số lượng các
  20. 11 transistor trong mạch cũng tăng lên theo cấp số nhân vì vậy cần phải giảm kích thước của các transistor. Tuy nhiên khi giảm kích thước của MOSFET đến 50 nm, để đạt được dòng mở mong muốn với điện thế nguồn cấp nhỏ, ta phải giảm điện môi cổng với độ dày ô-xít tương đương (Equivalent Oxide Thickness (EOT)) trong khoảng 0.5-1 nm. Nhưng khi lớp ô-xít quá mỏng, do hiệu ứng kênh ngắn, hạt dẫn trong kênh có thể xuyên hầm trực tiếp qua cổng, quá trình xuyên hầm qua rào điện môi sẽ làm tăng dòng rò (leakage current) dẫn đến công suất hao phí của các thiết bị cũng tăng theo [3]. Bên cạnh đó, đặc tính tắt-mở của linh kiện được đo bằng đại lượng là độ dốc dưới ngưỡng. Độ dốc dưới ngưỡng được định nghĩa là điện áp cổng cần thiết để tăng dòng dẫn lên 1 decade hoặc 10 lần. Do sử dụng cơ chế khuếch tán nhiệt nên độ dốc dưới ngưỡng tại nhiệt độ phòng của MOSFET bị giới hạn ở 60 mV/decade. Vì vậy, nếu giảm điện áp cung cấp sẽ làm giảm tốc độ của mạch. Những giới hạn vật lý đó của MOSFET là thách thức đối với các vi mạch tích hợp trong giai đoạn hiện nay. Do đó, vấn đề cấp thiết là việc thu nhỏ kích thước của MOSFET nhưng vẫn phải đảm bảo dòng rò không đáng kể và độ dốc dưới ngưỡng nhỏ hơn 60 mV/decade tại nhiệt độ phòng [4]. Nhiều cấu trúc và kỹ thuật tiên tiến đã được nghiên cứu và đưa vào sử dụng, nên MOSFET truyền thống có khả năng thu nhỏ xuống 100 nm đã được sản xuất hàng loạt như MOSFET với cấu trúc lưỡng cổng, đa cổng, cổng xung quanh,… Tuy nhiên, ngay cả trường hợp lý tưởng về điện môi cổng thì độ dốc dưới ngưỡng của MOSFET cũng không thể giảm xuống 60 mV/decade tại nhiệt độ phòng. Do giới hạn về độ dốc dưới ngưỡng nên điện thế nguồn cấp cho mạch vẫn không giảm xuống được [5] dù đã áp dụng nhiều kỹ thuật tiên tiến. Một số ý tưởng như thiết kế FET điện cơ nano [6], MOSFET treo [7], transistor hiệu ứng trường kim loại ô-xít bán dẫn va chạm ion hóa … đã cho độ dốc dưới ngưỡng nhỏ hơn 60 mV/decade ở nhiệt độ phòng nhưng lại gặp phải nhiều bất lợi như dòng rò cao, ảnh hưởng đến đặc tính tắt-mở (on-off switching) của linh kiện, hoặc cần điện thế máng cao trong suốt quá trình hoạt động [8, 9]... Do vậy, để giảm công suất tiêu thụ và thu nhỏ linh kiện mà không giảm điện thế nguồn cấp là một bài toán khó đối với MOSFET nói riêng và ngành công nghệ điện tử nói chung.
ADSENSE

CÓ THỂ BẠN MUỐN DOWNLOAD

 

Đồng bộ tài khoản
2=>2